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2025
01-072025
01-06一文了解離子研磨儀制備掃描電鏡（SEM）樣品的詳細流程與原理
離子研磨儀制備掃描電鏡（SEM）樣品的詳細流程與原理離子研磨是一種高精度的樣品表面制備技術，廣泛用于需要高分辨率顯微觀察的樣品制備，特別是那些容易受機械應力影響的材料，如半導體、陶瓷、復合材料等。以下將詳細闡述離子研磨樣品制備的原理、流程、參數(shù)設置以及實際案例。??1.離子研磨的基本原理離子研磨是通過惰性氣體離子束（通常是氬離子Ar?）轟擊樣品表面，將樣品表面的微小層逐漸去除，從而獲得無應力變形、無機械損傷且高度平整的表面。1.1離子研磨的核心部件離子源：通過電場加速氬離子（Ar?），形成高能量2025
01-032025
01-02數(shù)學為什么重要？用公式解釋掃描電鏡低電壓觀察不導電樣品的優(yōu)勢
什么是荷電效應？掃描電子顯微鏡主要用于樣品表面微觀形貌觀察，但在觀察樣品過程中經常由于荷電效應使得圖像異常變亮、畸變，甚至出現(xiàn)圖像模糊的情況，嚴重影響成像質量。圖1固體絕緣材料的電子發(fā)射特性曲線。橫坐標為入射電子能量，縱坐標為試樣的電子產率。荷電現(xiàn)象可以用基爾霍夫電流定律表示，即在任一瞬時流向某一結點的電流之和等于由節(jié)點流出的電流之和。可用以下公式表達：其中Ip是入射電子的電流，δIb是背散射電子和二次電子的電流之和，Isc是樣品接地電流，Q為時間t內的放電電荷。圖1絕緣體次級發(fā)射曲線對于絕緣材2024
12-302024
12-25ALD 用戶經典文獻分享｜非均勻 ALD 涂層包覆 NCM 工藝的界面研究
作者：科羅拉多大學AmandaL.Hoskins等人文章：NonuniformGrowthofSub?2NanometerAtomicLayerDepositedAluminaFilmsonLithiumNickelManganeseCobaltOxideCathodeBatteryMaterials摘要鋰離子電池的廣泛應用在很大程度上依賴于正極材料的性能。然而，這些材料在循環(huán)過程中容易出現(xiàn)容量衰減、過渡金屬溶解和結構失穩(wěn)等問題，限制了電池的使用壽命和穩(wěn)定性。鋰鎳錳鈷氧化物（LiNi0.33Mn2024
12-18顯微CT有多神？輕松“看透”材料內部結構，讓材料“開口說話”
在材料科學和工程領域，對材料內部結構的深入理解對于新材料的開發(fā)和現(xiàn)有材料性能的提升至關重要。顯微計算機斷層掃描（Micro-CT）技術作為一種先進的成像工具，能夠在不破壞樣品的情況下，揭示材料內部的微觀結構，包括孔隙率、裂紋、顆粒分布和相界面等。顯微CT以其高分辨率、非侵入性和多尺度分析能力，為材料結構、性能與失效機理的研究提供了全新的手段。本文將從顯微CT的基本原理、技術特點及其在材料研究中的典型應用展開討論。PART.01顯微CT的基本原理顯微CT技術利用X射線照射樣品，通過探測器記錄透射的2024
12-132024
12-09粉末原子層沉積（PALD）系統(tǒng)是一種表面改性技術
?粉末原子層沉積系統(tǒng)(PALD)主要用于在高比表面積的粉末顆粒表面構筑*薄的納米涂層或活性組分?。這種技術可以明顯提升粉末的物理化學性能，廣泛應用于催化、新能源、粉末冶金等領域?。粉末原子層沉積技術基于自限制性的化學半反應，通過將目標反應拆解為若干個半反應，實現(xiàn)表面涂層的原子層級厚度控制。在沉積過程中，前驅體被交替地引入反應室，并在粉末表面發(fā)生化學吸附和反應，形成單原子層的沉積膜。通過重復這一過程，可以制備出具有所需厚度和組成的涂層。工作原理粉末原子層沉積(PALD)技術是一種自限制性的化學氣相2024
12-09電池熱失控危機如何化解？Forge Nano ALD 原子層沉積技術揭示答案！
自20世紀90年代初投入商業(yè)使用以來，鋰離子電池的性能得到了顯著提升。美國能源部(DOE)車輛技術辦公室(VTO)估計，2008年至2020年間，鋰離子電池組的能量密度將增加8倍。當電池儲存更多能量時，它們在熱失控事件中會釋放更多能量。在電池組緊密排列的情況下，一個電池發(fā)生熱失控事件會導致相鄰電池升溫并釋放能量——這種連鎖反應會產生爆炸性的后果。ForgeNano的AtomicArmorTM涂層使電池制造商能夠使用更高能量的材料來制造電池，而不必擔心增加熱失控事件，這應該會減少較大電池組中的熱傳2024
12-022024
11-282024
11-232024
11-192024
11-05Pt/C 催化劑新突破！使用流化床 ALD 制備高性能燃料電池催化劑
德國弗萊堡大學課題組利用ForgeNanoPrometheus流化床原子層沉積系統(tǒng)進行商用燃料電池Pt/C催化劑的制備作者：德國弗萊堡大學FionaPescher,JulianStiegeler,PhilippA.Heizmann,CarolinKlose,SeverinVierrath,和MatthiasBreitwieser文章：Pt/Ccatalystssynthesizedinacommercialparticleatomiclayerdepositionsystemenablingim2024
10-24可以對話的離子研磨系統(tǒng) —— Technoorg Linda 的最新杰作！
在高科技領域，創(chuàng)新總是不斷推動著行業(yè)前行。TechnoorgLinda始終不忘初心，不斷創(chuàng)新。今天，我們自豪地向您介紹TechnoorgLinda的最新杰作——SEMPREPSMART智能操作離子研磨儀。作為我們行業(yè)的創(chuàng)新之作，SEMPREPSMART不僅是技術的集大成者，更是智能化操作的前沿。TechnoorgLinda榮獲2024年RedDotConceptAward（紅點獎）工業(yè)設備類別獎項。新一代離子研磨儀憑借出色的設計品質獲得了評審團的認可。RedDotConceptAward（紅點獎2024
10-182024
10-152024
10-08你真的理解保形性了嗎？深度揭秘 ALD 薄膜生長中的常見概念 !
研究原子層沉積(ALD)生長的薄膜的保形性不僅從應用角度來看很有趣。它還可以提供有價值的基本信息，如有關反應概率的信息。研究薄膜保形性也被證明是提升等離子體ALD一種有效的方法。本篇文章內容來自K.Arts,W.M.M.Kessels和H.C.MKnoops的研究，為大家深度揭秘與優(yōu)化ALD薄膜生長的保形性。通過表面吸附和表面復合而損失的反應物分子看起來可能相似，但會導致非常不同的生長行為。本篇文章將從三個方面解釋這一現(xiàn)象，并希望通過具象的案例圖片和動畫演示來幫助大家理解反應、擴散和復合限制生長2024
09-19掃一掃訪問手機商鋪
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