P-III的表面粒子檢測器系列通過以下技術實現電子半導體行業表面污染的量化監測和控制：

核心技術原理

界面顆粒再懸浮技術?：采用界面技術，通過物理或氣流方式將附著在關鍵

表面的顆粒重新懸浮，便于后續檢測。

高精度光學檢測：基于激光光學傳感器和光散射原理，實時捕獲懸浮粒子的散

射光信號，實現單個粒子尺寸的精確分析。

關鍵性能指標

分辨率達0.1微米，支持納米級顆粒檢測；

配備靜態采樣模式，提升測量精度和穩定性；符合ISO-14644-9表面粒子控制標準，

滿足半導體制造中對潔凈度的嚴苛要求

行業應用優勢

減少50%以上的自凈時間及顆粒數，縮短PM周期，提升制造效率；

通過實時監測表面污染，降低因顆粒導致的良率損失和可靠性風險；

適用于晶圓、光學元件、精密電路板等對潔凈度敏感的生產環節。

系統集成設計

支持USB數據導出和軟件升級，便于與工廠智能管理系統對接；

采用雙電池熱插拔設計，適應連續生產環境的需求。

該系列設備通過量化表面污染數據，為半導體制造中的過程控制提供標準化依據，從而優化生產良率和產品可靠性。

傳感器：第七代雙激光窄光檢測器，壽命>200000次

產品特點

智能化設計與操作體驗

7英寸高分辨率觸控屏：支持實時數據可視化與交互操作，簡化流程。

雙電池熱插拔系統?：支持連續生產場景下的不間斷作業，電池更換無需停機。

USB數據接口與軟件升級?：便捷導出檢測報告，并可通過固件更新持續優化性能。

提升制造效率

減少50%自凈時間?：通過量化表面污染數據，縮短設備維護周期（PM周期），提升產線吞吐量。

延長MTBC：結合顆粒控制策略，關鍵設備可靠性提升4倍以上。

覆蓋高潔凈場景

半導體制造：晶圓表面、機臺內腔等關鍵區域的潔凈度驗證。

精密光學與電子：液晶面板、光學鏡片組件、醫療器械的表面污染控制。

符合國際標準

產品嚴格遵循ISO-14644-9表面粒子控制規范，為半導體廠商提供標準化檢測工具。

測量粒徑:

A 0.3um、2.5um、10um;                            B 0.3um、(0.5/1.0/2.5/5.0）um、10um;

C0.3um、0.5um、1.0um、2.5um、5.0m、10um;         D 0.5um、1.0um、1.5um、2.0um、2.5um、3.0um;

E0,5um、1.0um、3.0um、5.0um、10.0um、25.0um;     F 0.1μm,0.2μm,0.3μm,0.5μm,1.0μm,5.0μm;

1、粒徑分布誤差：≤±30%

2、濃度示值誤差：≤±30%

3、重復相對偏差：≤±10%FS

4、重疊誤差：≤5%

5、氣體檢測：可測氣體濃度（可選配）

6、溫度范圍：-40 ～ 120℃

7、檢定標準：ISO14644-1或 JJF1190

8、氣泵流速：2.83L/min，28.3L/min（可選）；

9、采樣時間：3、6、9、12、15、30、60秒（可選）；

10、檢測模式：數量模式；質量模式； 凈效模式；

11、檢測方式：定時檢測、循環檢測可設置    

12、報警方式：自定義數量報警值、質量報警值

13、限值報警：RS485信號報警或外接聲光報警器

14、法 規 性：權限管控、審計追蹤、電子記錄等

15、合 規 性：符合ISO 21501-4，JIS B9921

16、通訊接口：RS232、R485、LAN-USB

17、存儲模式：實時、定時存儲可設置；無限制

18、打印模式：可選配微型打印機打印數據

19、工作條件：5 ～ 45℃、≤90%RH，無冷凝

20、工作電源：AC 100-240V, 50 Hz/60 Hz