PECVD設(shè)備 立式PECVD鍍膜設(shè)備
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 鄭州諾泰科技有限公司-C
- 品牌 其他品牌
- 型號 PECVD設(shè)備
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2020/3/24 12:37:42
- 訪問次數(shù) 684
產(chǎn)品標簽
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
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應用領(lǐng)域 | 化工,石油 |
產(chǎn)品概述:
鄭州諾泰科技PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應
立式PECVD設(shè)備
,在基片上沉積出所期望的薄膜,此立式PECVD設(shè)備由真空立式管式爐、射頻電源、供氣系統(tǒng)、石英真空室、真空測量系統(tǒng)組成。
PECVD系統(tǒng)配置:
1.1200度開啟式滑動單溫區(qū)真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
4.真空系統(tǒng)
產(chǎn)品特性:
此立式PECVD設(shè)備溫度范圍寬;濺射區(qū)域長;整管可調(diào);精致小巧,性價比高,可實現(xiàn)快速升降溫,是實驗室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復合薄膜等的理想選擇。立式PECVD系統(tǒng)以含鉬電阻絲為加熱元件,采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和30段程序控溫儀表,移相觸發(fā)、可控硅控制,爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料,具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點。