化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>其它實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>鍍膜機(jī)>star.220 高精密光學(xué)鍍膜機(jī)
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,能源,電子/電池 |
高精密光學(xué)鍍膜機(jī)
FHR.Star.220 磁控濺射鍍膜機(jī) 是一款特殊設(shè)計(jì) , 結(jié)構(gòu)緊湊的濺射臺(tái)，用于晶片類基底或基底承載器的工藝處理。鍍膜工藝通過不加熱的背板盛放基底承載器并旋轉(zhuǎn)實(shí)現(xiàn)。每個(gè)濺射源可軸向和水平方向調(diào)節(jié)，因此，可實(shí)現(xiàn)不同高度基底多種靶基距范圍的鍍膜工藝。機(jī)械手通過上料盒升降裝置的上下移動(dòng)傳輸基底承載器。基底的依次鍍膜工藝通過自動(dòng)編程自動(dòng)得以實(shí)現(xiàn)。
高精密光學(xué)鍍膜機(jī)設(shè)備詳情：
基片大尺寸：直徑6英寸
進(jìn)樣室類別：盒式載片器進(jìn)樣室
濺射靶位：多6個(gè)
設(shè)備尺寸：3300mm×1300mm×2500mm
重量：3000Kg
可選件：基片加熱、靶基距可調(diào)、RF等離子體刻蝕
工藝氣體：氬氣（Ar），可選氧氣（O2），氮?dú)猓∟2）
膜厚均勻性：±5%
極限真空：5×10-7mbar
Star.220 磁控濺射鍍膜機(jī)典型應(yīng)用：硅基半導(dǎo)體、化合物半導(dǎo)體、功率半導(dǎo)體、MEMS、傳感器微電子、光電子
北京朗銘潤德光電科技有限公司是一家在半導(dǎo)體微電子、高精密光學(xué)鍍膜領(lǐng)域，光伏、光熱、鋰電池等新能源領(lǐng)域以及窗膜、汽車膜、柔性電路板等行業(yè)提供專業(yè)相關(guān)工藝設(shè)備的代理公司。
從2006年起與德國著名微電子設(shè)備專業(yè)廠家FHR公司開始合作，并于2008年成為其中國區(qū)的代理機(jī)構(gòu)。通過我們的合作，使 FHR的產(chǎn)品逐漸進(jìn)入中國，并成為國內(nèi)鍍膜設(shè)備的供貨商。
我們于 2010 年在北京石景山中關(guān)村高科技園區(qū)成立了專業(yè)代理國外微電子半導(dǎo)體及相關(guān)設(shè)備的北京朗銘潤德光電科技有限公司，并與*技術(shù)供貨商建立合作關(guān)系，為公司全面化運(yùn)轉(zhuǎn)及操作奠定了良好開端。
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