深圳市甲岸科技有限公司位于世界工廠東莞，一家一站式等離子清洗設備研發生產廠家，等離子表面處理方案提供商。
公司致力于幫助各領域的客戶，解決客戶產品材料表面處理問題。使用本公司技術服務和設備，幫助客戶解決材料清洗/活化/改性/除膠/刻蝕等問題，降低企業生產成本，讓企業輕松實現“節能、降耗、減污、增效”的目的，也為社會青山綠水貢獻一份力量。
甲岸科技堅持以“滿足客戶需求”為企業發展源動力，持續研發新產品滿足市場需求，也為客戶提供OEM定制服務。
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 環保,化工,電子/電池,電氣,綜合 |
|---|---|---|---|
| 品牌 | 甲岸 |
甲岸小型等離子去膠機屬于真空等離子清洗機系列
隨著科學技術的進步，微波等離子去膠機在現代工業中發展迅速。原因也很簡單。選擇等離子去膠機是因為操作簡單，工作效率高，成本低，環保，去膠后表面光滑。以下是等離子去膠機的使用方法:
1、調整適當的頻率：
頻率越高，氧越容易電離成等離子體。如果頻率過高，電子振幅比平均自由度短，則降低電子與氣體分子碰撞的概率，降低電離率。通常，微波等離子體去膠機的常用頻率為13.56mHz和2.45gHZ。
2、調整適當功率：
至于一定量的氣體，功率大，等離子體中的活性粒子密度高，去膠速度快；但當功率增加到一定值時，能消耗的活性離子就會飽滿，無論功率有多大，去膠速度都不會顯著增加。由于功率大，基板溫度高，微波等離子體去膠機的功率應根據技術要求進行調整。甲岸小型等離子去膠機
3、調整合適的真空度：
適當的真空度可以增加電子運動的平均自由度，因此從電場獲得的能量很大，有利于電離。當氧氣流量必須準時時，真空度越高，氧氣的相對份額就越大，活性粒子的濃度也就越大。但如果真空度過高，活性粒子的濃度就會降低。
4、氧氣流量調整：
氧氣流量大，活性粒子密度大，去膠速率加快；但如果流量過大，離子復合概率會增加，電子運動的平均自由度會縮短，電離強度會降低。如果反應室壓力不變，流量增加，也會增加提取的氣體量，同時也會增加尚未參與反應的活性粒子提取量，因此流量的增加對去膠速率的影響不大。
甲岸小型真空等離子清洗機
Plasma等離子清洗機一般包括真空系統,電源系統,供氣系統和清洗室,清洗室內安裝有電極架,可以將射頻電極,地極按照交替的方式組合放置,以適應不同的清洗場合。
清洗時首先運行真空泵對真空室進行抽氣,當真空室達到一定真空度后,由充氣閥充入一定氣壓工藝氣體,調節氣體流量,使得真空室內的真空度保持在30Pa左右,然后給放電電極通入射頻電源,當調節電源的輸出功率到合適時,透過玻璃觀察窗，可以觀察到真空腔體中有輝光現象產生,證明產生了等離子體。
等離子清洗機的機理:
主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發為等離子態;氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。
甲岸小型真空等離子清洗機
等離子清洗技術在處理中具有如下優勢：
（a） 環保節能。相比于傳統濕法清洗技術，等離子清洗技術使干式工藝，不消耗水和化學試劑，省能源、無污染
（b） 具有在線生產能力，能實現全自動化處理，處理時間短，效率高，成本低
（c） 不分處理基材類型，均可進行處理，能處理形狀較復雜的材料，材料表面處理的均勻性好。
（d） 對材料表面的作用僅涉及到納米級處理，可在保持處理材料原本效果的同時，賦予其另一種新的功能
（e） 處理溫度低，不對材料表面造成損害，常規樣品處理后較長時間內保持效果良好
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