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　　橢圓偏振光譜是一種表面敏感、非破壞性、非侵入性的光學技術，廣泛應用于薄層和表面特征。根據薄膜樣品反射的線偏振光偏振態的變化，通過模型擬合得到厚度和光學常數。根據薄膜材料的不同，可測量的厚度從幾微米到幾十微米不等。橢圓偏振光譜是一種很好的多層薄膜測量技術。

　　

　　橢圓偏振儀可以表征薄膜的一系列特性，如薄膜厚度、光學性質（n，K）、光學帶隙、界面和粗糙度厚度、薄膜成分、薄膜均勻性等。采用新型高頻偏振調制技術，測試過程無機械轉動。與傳統的橢偏儀相比，它具有更快的測試速度、更寬的測量范圍和更高的表征精度。

　　
 

　　橢圓偏振儀是一種用于檢測薄膜的厚度、光學常數和材料微觀結構的光學測量設備。由于不與樣品接觸，因此不會損壞樣品，也不需要抽真空，可測量的材料包括半導體、電介質、聚合物、有機物、金屬和多層材料。也可應用于半導體、通訊、數據存儲、光學鍍膜、平板顯示、科研、生物、醫藥等領域。

　　

　　橢圓偏振儀主體采用高強度鋼鋁結構，底座采用三維圓盤設計，并采用高精度蝸桿軸承系統，增強入射角控制精度，提高機械強度和穩定性儀器，并通過計算機控制自動改變M入射角，同時結合光譜測量。儀器的狀態調整、參數設置、數據采集和數據處理均由計算機自動完成，方便用戶使用。廣泛應用于大學教學和工業生產，可用于研究金屬、非晶、太陽能材料、非線性材料等，是一款高性價比、高集成度、高穩定性的通用型納米薄膜厚度測量分析儀器并且操作簡單。它的主要功能如下：

　　

　　1、各種功能材料的光學常數測量和光譜特性分析；

　　

　　2、測量薄膜材料的折射率和厚度；測量對象包括：金屬、半導體、超導體、絕緣體、非晶、超晶格、磁性材料、光電材料、非線性材料；測量光學常數：復折射率實部虛部、復介電常數實部虛部、吸收系數a、反射率R。