UltraBright微焦點系統是90kV、80W的X射線源，設計用于高功率、通量密度和焦點尺寸非常重要的應用。UltraBright極適用于X射線微斷層成像、X射線微熒光分析、X射線衍射分析和X射線成像等。多篇科學論文論證UltraBright的使用性能，2000年11月發表于《科學儀器評論》的《用于大分子晶體學的緊湊系統》論證了UltraBright與多毛細血管光學器件的組合使用

我們的UltraBright微焦點系統是90kV、80W的X射線源，設計用于高功率、通量密度和焦點尺寸非常重要的應用。

UltraBright微焦點系統形成的焦點尺寸≤10微米，采用端窗設計，形成的投射距離（FOD）為4mm，可保證放大倍數和圖像質量。UltraBright系統通過外部高壓智能控制器進行操作，該控制器能夠在*控制“亮度”的情況下對10kV~90kV的高壓和0.33-2毫安的電子加速束電流進行隨意調節。智能控制器可計算在給定功率設置值下、zui大通量輸出時的焦點尺寸，并可安裝支持遠程控制的UltraBright個人電腦軟件，因而，該系統是大多數研究應用的理想解決方案。

UltraBright非常適用于X射線微斷層成像、X射線微熒光分析、X射線衍射分析和X射線成像等。多篇科學論文論及了UltraBright的使用性能，在2000年11月發表于《科學儀器評論》的《用于大分子晶體學的緊湊系統》一文中，論證了UltraBright與多毛細血管光學器件的組合使用，其射線通量率比5kW旋轉陽極系統還要大。

本品優勢為：

1、投射距離小（FOD）——放大倍率高、圖像質量好

2、高功率——高通量應用領域和實驗的理想選擇

3、焦點小——X射線光學器件的理想接口

4、數字接口——簡化通信

5、編程控制——研究領域的理想選擇

6、緊湊輕型設計——便攜式應用的理想選擇

其詳細介紹：Ultrabright.pdf

工作電壓：               90kV

功率    ：               80W

焦點尺寸：               15µm

投射距離：               4mm

靶材料  ：               W, Mo, Cu