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感應耦合反應離子刻蝕系統ICPRIE由射頻電源感應產生等離子體,以產生各向異性蝕刻。在基本ICP-RIE蝕刻系統中，射頻直接連接到用作電極的樣品臺，產生各向同性等離子體。ICPRIE刻蝕系統有時被稱為桶型蝕刻機。
最初的ICP反應器由石英管組成，射頻線圈纏繞在石英管周圍，以產生等離子體，從而產生各向異性蝕刻。感應耦合反應離子刻蝕系統ICPRIE有多種類型，其中一種重要類型是將電容耦合偏壓與樣品臺相結合，以實現電感耦合RF等離子體蝕刻特性的工藝控制。應用包括電介質材料的干蝕刻。
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最初的ICP反應器由石英管組成，射頻線圈纏繞在石英管周圍，以產生等離子體，從而產生各向異性蝕刻。感應耦合反應離子刻蝕系統ICPRIE有多種類型，其中一種重要類型是將電容耦合偏壓與樣品臺相結合，以實現電感耦合RF等離子體蝕刻特性的工藝控制。應用包括電介質材料的干蝕刻。
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