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氬離子拋光儀的技術原理及主要功能
氬離子拋光儀利用氬離子拋光技術，通過離子束對樣品表面進行削平拋光處理，以便利用掃描電鏡等顯微觀察工具觀察樣品表面的微觀特征。
氬離子拋光儀的原理：
氬離子拋光技術是對樣品表面進行拋光，去除損傷層，從而得到高質量樣品，用于在掃描電鏡，光鏡或者掃描探針顯微鏡上進行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC或其它分析。針對不同的樣品的硬度，設置不同的電壓、電流、離子槍的角度、離子束窗口，控制氬離子作用的深度、強度、角度、這樣較ng準的參數，有利于制備成研究者理想的材料樣品，這樣的樣品不僅表面光滑無損傷，而且還原材料內部的真實結構，正如頁巖內部的細微孔隙在掃描電鏡下放大到10K時也能看得清清楚楚，以及材料內部的不同物質分層都能看的分界線明顯。
氬離子拋光儀的切割和拋光兩項功能：
①配溫控液氮冷卻臺，去除熱效應對樣品的損傷，有助于避免拋光過程中產生的熱量而導致的樣品融化或者結構變化;
②配碳/鉻鍍膜，對于同一個樣品，可在同一真空環境下完成拋光及鍍膜，防止樣品氧化，可以用于SEM/FIB導電鍍膜樣品制作。
氬離子拋光在材料制樣的特出優點：
①對由硬材料和軟材料組成的復合材料樣品,能夠很精細地制作軟硬接合部的截面,而使用傳統方法制樣是很困難的。
②比FIB方法的拋光面積更大(~1mm以上)。
氬離子拋光儀可以運用于各種材料樣品(除了液態)的制備，適應大多數材料類型，對大面積、表面或輻照及能量敏感樣品尤佳：鋼鐵、地質、油頁巖、鋰離子電池、光伏材料、薄膜、半導體、EBSD、生物材料等包括平面拋光與截面拋光。