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輸入電源

208 - 240VAC  , 10A , 50/60 Hz, 單相

功率

< 2000W  (包括真空泵)

輸出電壓 (DC)

• AC10V  zui大電流 100A （對于真空鍍膜）
• DC 3KV, 10mA   （對于等離子濺射）

真空腔體

有一玻璃鐘罩：250mm dia. x 340mm

（2）玻璃處理室：

• 玻璃罩 A:內徑８８mm×高度１４０mm（用于真空鍍膜)
• 玻璃罩 B:內徑８８mm×高度５７mm（用于等離子濺射）

鍍膜裝置

對于制膜，儀器可設置三種模式：

（1）一種模式專門針對于蒸發鍍膜（下方左圖）

• 此儀器可以同時蒸鍍兩種材料，其zui高溫度可以達到1800℃
• 采用鎢絲進行加熱

（2）蒸碳鍍膜模式（下方中圖）

儀器中包括有兩組碳棒

（3）直流等離子濺射模式（下方右圖）儀器中包含有一金靶（38mm Dia x 0.2 mm t）

• 可在本公司選購其他材質靶材( 請點擊查看 )
•      

    Thermal Evaporation  Carbon coating   Plasma sputtering

樣品臺

• 樣品臺可以自動轉動（見做圖）
• 樣品臺尺寸：40mm
• 儀器上安裝有一電動快門用于控制蒸鍍的開始與停止（見右圖）  

真空泵

• 儀器下端安裝有一機械泵和分子泵
• 抽速:600L/S
• 真空度:  10-6 torr
• 設備工作環境溫度:< 32°C

控制面板

在控制面板上可以選擇鍍膜模式，調節濺射電流和蒸發功率

外型尺寸

L800mm× W560mm× H1340mm

凈重

150 kg

質保期

一年質保期，終身維護

CE certified