薄膜材料的真空、等離子制備、處理技術現(xiàn)已被廣泛應用于半導體、光電、太陽能等域的研發(fā)以及成產當中，這些技術包括： 等離子體增強化學氣相沉積反應器（PECVD Reactors） 脈沖激光沉積系統(tǒng)（Pulsed Laser Deposition） 磁控濺射系統(tǒng)（Sputter Deposition System） 電子束沉積系統(tǒng)（E-beam Deposition Systems） Quantum Design 引進多家真空等離子生產商設備，產品線涵蓋通用系統(tǒng)到定制設備，來滿足中國科研機構的不同需求，適合實驗室及工業(yè)使用。 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng) (PECVD)
應用域：
SiO2、Si3N4、非晶硅、類金剛石薄膜、光學薄膜、介質膜等制備
太陽能電池研發(fā)
石墨烯制備
碳納米管選擇性制備
等離子誘導表面改性
等離子清洗（NF3）
反應離子蝕刻
NPE 系列：標準化射頻等離子體怎強化學氣相沉積系統(tǒng)（RF-PECVD reactors）
資料下載 FLARION 系列：射頻等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)，高開放性、可擴展定制 資料下載
MIRENIQUE 系列：微波-等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)（MW-PECVD reactors），高開放性、可擴展定制
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脈沖激光沉積系統(tǒng) （Pulsed Laser Deposition systems）
應用域：
高溫超導材料研發(fā)
鐵電材料
鐵磁材料
光學材料
電介材料
硬質薄膜
透明導電氧化物(TCO)沉積，如ITO,ZnO
功能陶瓷薄膜
納米結構生長
聚合物薄膜
GLAZE 系列：中小型，高擴展性制式系統(tǒng)
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JUV 系列：大中型、復雜定制PLD系統(tǒng)
歡迎垂詢具體技術細節(jié)。
MAGNION 系列：磁控管陰和磁控濺射系統(tǒng)（sputtering cathodes and PVD deposition systems）
資料下載 FLOCON 系列：電腦控制氣體管理系統(tǒng) （computer controlled gas management systems） 
資料下載 此外，Plasmionique公司還可以定制：電子束沉積系統(tǒng)（E-beam Deposition Systems） 混合沉積系統(tǒng)（Hybrid Deposition Reactors） 等離子 離子注入系統(tǒng) （Plasma Ion Implanter） 分子束外延系統(tǒng) （MBE Systems） 等離子、反應離子、深反應離子蝕刻反應器（PE, RIE. DRIE Reactors） * | 高速高分辨率拉曼成像顯微鏡 > 線掃描激光束；> 多光譜同步測量; >狹縫聚焦; > XY方向260nm空間分辨,...... | * | 時間分辨精細陰熒光分析系統(tǒng) - attolight > 定量測量SEM-CL; >300um視場, 10nm空間分辨率; >10ps時間分辨率; > 20-300K,...... | * | 高光譜化學成像工作站SisuCHEMA > 推掃式成像> 400~1000nm; >900~1700nm; > 1000~2500nm; >整合數(shù)據(jù)采集處理軟件,...... | * | 有機/金屬薄膜沉積系統(tǒng)（ＯＬＥＤ） > 1~6室沉積系統(tǒng)> 有機-金屬，同室/異室沉積 > *濕度控制技術，> 精確速率控制 | * | 無掩膜激光直寫光刻系統(tǒng) > 0.6, 1, 3; 5, 10um分辨率 > 300mm2/min直寫速度; >200nm對準精度 |
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