棱鏡耦合測試儀采用棱鏡耦合方法測試樣品折射率，可測試波長633nm、935nm、1549nm處的折射率值，通過軟件做曲線耦合科求出任何波段的模擬值。測量原理：待測樣品通過一個空氣作用的耦合探頭與棱鏡基座接觸，在薄膜與棱鏡之間產生一個空氣狹縫。一束激光光束照射到棱鏡基座上，通常會在基座上全反射進入光電探測器。在某一些入射角，稱為模式角，光子向下穿過空氣狹縫進入薄膜，進入一種被引導的光傳播模式，使到達探測器的光強度大幅降低。
棱鏡耦合測試儀的技術特點：
1、對折射率隨波長變化不敏感：
每種薄膜的折射率都隨波長變化。在以分光光度學為基礎的技術中，如果沒有精確了解薄膜折射率在全波長范圍內的變化，就會導致實質性的錯誤。而且，一些可變折射率薄膜，例如等離子氮化硅的折射率-波長曲線就高度依賴于薄膜沉淀條件。對于這些薄膜，Model2010的單色測量具有了一種明顯的優勢。
2、不必預先知曉薄膜厚度:
由于橢偏儀數據隨薄膜厚度周期性變化，橢圓偏光法要求預先知曉薄膜厚度，準確度為±750to±1250，這取決于薄膜折射率。Model2010可以進行直接的厚度測量，故不需要預先知曉薄膜厚度。
在某些周期性的厚度范圍內不可能進行以橢圓偏光法為基礎的折射率測量。使用Model2010，一旦薄膜厚度超過某個最小的閾值（典型值為3000-4800,取決于薄膜/基底材料類型）就可得到*準確的折射率測量。
3、內部一致性檢測:
如果薄膜厚度超過5000-7500?，將對薄膜厚度和折射率進行多重獨立評估，并將這些多重評估的標準偏差顯示出來。只要這些測量標準偏差很低（典型值為：厚度0.3%，折射率.01%），顯著誤差幾乎不會出現。目前市面上還沒有其他的技術可以就每次檢測的正確性提供類似的“信心檢測”硅基上氮氧化物及硅基上氧化物的氮化物表層的測量。
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