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納米壓印系統-光刻機

引入了一個臺式、獨立的NanoImprint平臺。
這個平臺提供了一個帶有微型定位夾具的機械平臺，用于安裝納米壓印室、紫外線固化源和校準顯微鏡。

它既可以作為納米壓印系統，也可以作為傳統的掩模校準器，同時為整個壓印過程提供可編程的自動控制。

我們納米壓印系統-光刻機的優勢
•低于10納米分辨率，99%的產量
•支持硬模具和軟模具
•可變模具和基板尺寸提供的便利性和靈活性
•自動釋放工藝可防止分離過程中的模具/基板損壞，并最大限度地提高每個印記的產量。
•自動釋放工藝可防止分離過程中的模具/基板損壞，并最大限度地提高每個印記的產量。
•適用于各種應用的多功能流程：
•光學設備、顯示器、數據存儲、生物醫學
•器件、半導體集成電路、化學合成和先進材料
•帶觸摸屏用戶界面的可編程PLC允許通過定制參數進行過程控制
•專有的紫外固化納米壓印膠對硬度或厚度沒有限制，并且與傳統的光刻工藝兼容。