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熱膨脹儀
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貨物所在地:上海上海市

更新時間:2024-12-18 21:00:07

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熱膨脹儀 L75 / High PressureLinseis研發的單桿-、雙桿-、差示-、四桿-、淬火-( 熱膨脹相變儀)、激光和光學法膨脹儀等多種設備,測量溫度范圍從-180°C—2800°C,分辨率高達0.3nm。 Linseis多年的研究經驗(始于1953年),Linseis的具有的優異性能。

熱膨脹儀大大拓展了熱分析的應用范圍。該系統可以在溫度從室溫到1100/1400/1800 ℃,并在該壓力達到100/150 bar的環境中測量的材料的膨脹(長度的改變)。此設備是目前世界上*可用的高壓膨脹儀。可選用水蒸氣發生裝置和多氣體控制系統。

     為了測量數據和拓寬測量范圍,可以使用QMS和FTIR對逸出的氣體進行分析。耦合后的功能超過單獨部件的總和。用戶通過LINSEIS耦合技術和綜合硬件和軟件,采用不同數據庫對數據進行分析以得到*的結果。

 

型號DIL L75 HP / 1  DIL L75 HP/2  
溫度范圍*RT -- 1100°CRT -- 1400/1800°C
zui大壓力zui大150 bar zui大100 bar
真空10E-4 mbar10E-4 mbar
樣品支架熔融石英 < 1100°C熔融石英 < 1100°C
 Al2O3 < 1750°CAl2O3 < 1750°C
zui大樣品長度50 mm 50 mm 
樣品直徑7/12/20 mm7/12/20 mm
可調樣品壓力zui大 1000 mNzui大 1000 mN
測量范圍500 / 5000 µm500 / 5000 µm
分辨率0.125 nm 0.125 nm
可選裝置 壓力可控混氣系統 (MFC´s)  壓力可控混氣系統 (MFC´s)  
氣氛 惰性, 氧化性**, 還原性, 真空 惰性, 氧化性**, 還原性, 真空

* 取決于不同爐體  

** 不適用于石墨加熱爐 

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