微區(qū)掃描電化學(xué)工作站是一個(gè)模塊化配置的系統(tǒng)，可以實(shí)現(xiàn)如下現(xiàn)今所有微區(qū)掃描探針電化學(xué)技術(shù)以及激光非接觸式微區(qū)形貌測(cè)試。

　　微區(qū)掃描電化學(xué)工作站出色的性能：

　　1.快速的閉環(huán)定位系統(tǒng)為電化學(xué)掃描探針納米級(jí)研究的需求而特別設(shè)計(jì)。結(jié)合Uniscan *的混合型32-bit DAC技術(shù)，用戶可以選擇合適實(shí)驗(yàn)研究的*配置

　　2.先進(jìn)和靈活的工作平臺(tái)

　　3.系統(tǒng)可提供9種探針技術(shù)，使得M470成為zui靈活的電化學(xué)掃描灘鎮(zhèn)工作平臺(tái)。

　　4.全面的附件

　　5.7種模塊可選，3種不同電解池，各式探針，長(zhǎng)距顯微鏡以及后處理數(shù)據(jù)分析軟件。

　　微區(qū)掃描電化學(xué)工作站應(yīng)用：

　　掃描電化學(xué)顯微系統(tǒng)（SECM）
    交流掃描電化學(xué)顯微鏡系統(tǒng)（ac-SECM）
    間歇接觸掃描電化學(xué)顯微鏡系統(tǒng)（ic-SECM）
    微區(qū)電化學(xué)阻抗測(cè)試系統(tǒng)(LEIS)
    掃描振動(dòng)點(diǎn)擊測(cè)試系統(tǒng)（SVET）
    電解液微滴掃描系統(tǒng)（SDS）
    交流電解液微滴掃描系統(tǒng)（ac-SDS）
    掃描開爾文探針測(cè)試系統(tǒng)（SKP）
    非觸式微區(qū)形貌測(cè)試系統(tǒng)（OSP）

　　微區(qū)掃描電化學(xué)工作站技術(shù)參數(shù)：

工作站（所有技術(shù)）
掃描范圍（x,y,z）           大于100nm
掃描驅(qū)動(dòng)分辨率              zui高0.1nm
閉環(huán)定位                    線性零滯后編碼器，直接實(shí)時(shí)讀出x,z和y位移
軸分辨率（x,y,z）            20nm
zui大掃描速度                 12.5mm/s
測(cè)量分辨率                   32-bit解碼器@高達(dá)40MHz
壓電（ic-和ac-掃描探針技術(shù)）
振動(dòng)范圍                20nm~ 2μm峰與峰之間1nm增量
zui小振動(dòng)分辨率          0.12nm(16-bit DAC,4μm)
壓電晶體伸展            100μm
定位分辨率              0.09nm(20-bit DAC ,100μm)
機(jī)電
掃描前端                500×420×675mm(H×W×D)
掃描控制單元            275×450×400mm(H×W×D)
功率                    250W