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塞貝克系數(shù)電阻測(cè)試儀 先進(jìn)功能材料電測(cè)綜合測(cè)試系統(tǒng)- 絕緣電阻劣化（離子遷移）評(píng)估系統(tǒng) 儲(chǔ)能新材料電學(xué)綜合測(cè)試系統(tǒng) 半導(dǎo)體封裝材料真空探針臺(tái) 空間電荷測(cè)試系統(tǒng) 電容器溫度特性評(píng)估系統(tǒng) 高頻高壓絕緣電阻、介電 多通道極化裝置 鐵電分析儀 高壓功率放大器 絕緣電阻率測(cè)試儀 高低溫冷熱臺(tái)測(cè)試系統(tǒng) 50點(diǎn)耐壓測(cè)試儀 電壓擊穿測(cè)定儀 耐電弧試驗(yàn)儀 探針臺(tái) 漏電起痕試驗(yàn)儀 多通道介電與電阻測(cè)試系統(tǒng)
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傳感器多功能綜合測(cè)試系統(tǒng) 先進(jìn)功能材料電測(cè)綜合測(cè)試系統(tǒng) 長(zhǎng)期耐腐蝕老化試驗(yàn)平臺(tái)- 高電場(chǎng)介電、損耗、漏電流測(cè)試系統(tǒng) 阻抗分析儀 鐵電綜合材料測(cè)試系統(tǒng) 鐵電分析儀 高壓功率放大器 D33壓電系數(shù)測(cè)試儀 高溫介電溫譜測(cè)試儀 熱釋電測(cè)試儀 TSDC熱刺激電流測(cè)試儀 高壓極化裝置 高低溫冷熱臺(tái) 簡(jiǎn)易探針臺(tái) 高溫四探針測(cè)試儀 多通道電流采集系統(tǒng) 高真空退火爐 電學(xué)綜合測(cè)試系統(tǒng) 高溫管式爐測(cè)試儀 漆包線擊穿耐壓試驗(yàn)儀 電化學(xué)遷移測(cè)試系統(tǒng) 水平垂直燃燒測(cè)定機(jī) 陶瓷材料閃燒試驗(yàn)裝置 導(dǎo)通電評(píng)估系統(tǒng) 差熱分析儀 醫(yī)用接地電阻
具備三大優(yōu)勢(shì)的高溫絕緣電阻測(cè)試儀用于產(chǎn)品檢測(cè)以及新材料電學(xué)性能研究！
具備三大優(yōu)勢(shì)的
高溫絕緣電阻測(cè)試儀用于產(chǎn)品檢測(cè)以及新材料電學(xué)性能研究！
產(chǎn)品介紹：
高溫絕緣電阻測(cè)試儀運(yùn)用平行板法設(shè)計(jì)原理測(cè)量。該儀器設(shè)計(jì)符合 《GB/T 10518-2006絕緣材料在高溫下電阻和電阻率試驗(yàn)方法》標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)開發(fā)，并參考美國(guó) ASTM 標(biāo)準(zhǔn)。利用電阻測(cè)試系統(tǒng)，重復(fù)性與穩(wěn)定性好，提升了夾具的抗干擾能力，同時(shí)大大提高精確度,可應(yīng)用于產(chǎn)品檢測(cè)以及新材料電學(xué)性能研究等用途。 針對(duì)高溫絕緣電阻測(cè)試儀做了多項(xiàng)安全設(shè)計(jì)，測(cè)試過程中在過電壓、 過電流、超溫等異常情況下以保證測(cè)試過程的安全；資料保存機(jī)制，當(dāng)遇到電腦異?；蛩矔r(shí)斷電時(shí)，可將資料保存于控制器中，不丟失試驗(yàn)數(shù)據(jù)， 設(shè)備重新開啟后可恢復(fù)原有試驗(yàn)數(shù)據(jù)。
三大優(yōu)勢(shì)：
目前國(guó)內(nèi)高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，主要原理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱，加熱與降溫過程速度慢，效率低下。也無法實(shí)現(xiàn)溫度的高精度測(cè)量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測(cè)儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)高的精度，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱及高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布。 可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻 ，用石英管保護(hù)加熱試樣，無氣氛污染?？稍诟哒婵?，高純度氣體中加熱 。設(shè)備可組成均熱高速 加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。 它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰Α?/span> 同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講，都節(jié)省試驗(yàn)時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單，有冷卻系統(tǒng)安全可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率，實(shí)現(xiàn)全新的溫度控制操作！
1、高速加熱與冷卻方式：
高能量的紅外燈和高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。
2、溫度高精度控制：
近紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度(遠(yuǎn)比普通加溫方 式)。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供精度。
3、不同環(huán)境下的加熱與冷卻：
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)），操作簡(jiǎn)單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。