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技術(shù)文章
VCD高真空箱的主要技術(shù)指標(biāo)
點(diǎn)擊次數(shù)：152 發(fā)布時(shí)間：2025-2-14
一、簡(jiǎn)介：VCD高真空箱主要應(yīng)用于航空、航天、軍事、電子、通訊、光電等科研及生產(chǎn)單位。集公司多年在真空設(shè)備成功經(jīng)驗(yàn)，通過(guò)不斷潛心研究，突破傳統(tǒng)技術(shù)創(chuàng)造性解決了精密高真空設(shè)備的控制難點(diǎn)，能精準(zhǔn)控制133Pa以下的真空度。
二、主要技術(shù)指標(biāo)：
規(guī)格型號(hào)： HE-WD-300 HE-WD-400 HE-WD-500 HE-WD-600
內(nèi)箱尺寸(mm)： 300×300×300 400×400×400 500×500×500 600×600×600
外形尺寸(mm)： 700×550×1250 700×660×1450 780×770×1550 900×860×1650
真空度范圍： 100000Pa～1Pa
控制方式： 真空計(jì)顯示或PLC觸摸屏控制
結(jié)構(gòu)： 一體式結(jié)構(gòu)（內(nèi)置真空泵）或分體式（外置真空泵）
內(nèi)箱材質(zhì)： SUS304#不銹鋼
外箱材質(zhì)： SECC鋼板高級(jí)烤漆處理
使用電源： AC 單相 三線(xiàn) 220V 50HZ或AC 三相 五線(xiàn) 380V 50HZ
選加功能： 加熱功能（RT+10℃～200℃）
真空泵： 另購(gòu)（可用戶(hù)自備）