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癥 狀

可能的原因

解決方案解

透鹽率高

產水量高

(進水壓力低)

膜氧化

更換受損膜元件，*氧化源，通常情況下，系統中的支元件首先受氧化攻擊，可采用探測法確定。

膜面剝離

(產水背壓所致)

更換受損膜元件，可采用尋找分布規律法(profiling)和探測法(probing)確 定受損膜元件。

清洗消毒方法不正確

(存在鐵污染)

更換受損膜元件，膜元件在采用任何含有潛在氧化性的消毒劑前，首先必須清洗掉鐵和其它金屬離子。通常情況下，系統中的支元件首先受損，可采用探測法確定。

嚴重的機械損壞

更換受損膜元件，可采用尋找分布規律法(profiling)和探測法(probing)確 定受損膜元件。

透鹽率高

產水量正常

“O"形圈泄漏或未裝

采用尋找分布規律法(profiling)和探測法(probing)確定泄漏位置，更換已受損的“O"形密封圈。建議采用合適的密封劑并調整膜元件在壓力外殼內的間歇，限制由于元件在壓力容器內的運動而引起的密封圈磨損。

膜表面磨損

用探測法可找到已損壞的膜元件，整改預處理，更換膜元件。

內部部件破裂

采用尋找分布規律法(profiling)和探測法(probing)確定泄漏位置，更換已受損的部件，如果膜元件產水管受損，更換膜元件。建議采用合適的密封劑并調整膜元件在壓力外殼內的間歇，限制由于元件在壓力容器內的運動而引起的密封圈磨損。

透鹽率高

產水量低

(進水壓力高)

有機物污染

檢查有機物或油的含量或是否超回收率操作。按陶氏的清洗導則在pH12的條件下進行清洗，某些有機物容易清洗，但對聚電解質類有機物污染，清洗無效，而且也難于清洗油類有機物，此時可嘗試用pH12的洗滌劑。

碳酸鹽結垢

按清洗導則在pH2的條件下對系統進行清洗，可能需要強烈重復清洗，如果結垢十分嚴重或重復清洗不經濟時，應更換膜元件。一般情況下，把系統 后的元件取出稱重就可以了解結垢的程度。

硫酸鹽結垢

按清洗導則在pH12的條件下對系統進行清洗，可能需要強烈重復清洗，如果結垢十分嚴重或重復清洗不經濟時，應更換膜元件。一般情況下，把系統 后的元件取出稱重就可以了解結垢的程度。

膜元件被異物堵塞或膜表面受到磨損(如砂粒等)

用探測法探測系統內的元件，找到已損壞的膜元件，改造預處理，更換膜元件。

膠體硅污堵

按清洗導則在pH12的條件下進行清洗，但膠體硅污堵的清洗十分困難，建議調整預處理，降低回收率。

氧化鐵污堵

按清洗導則采用亞硫酸氫鈉在pH5的條件下進行清洗。

其它重金屬氧化物污堵

在pH2的條件下按清洗導則進行清洗。

硫化亞鐵污堵

在pH2的條件下按清洗導則進行清洗。應嚴防空氣進入膜系統。

氟化鈣污堵

在pH2的條件下按清洗導則進行清洗。

磷酸鹽結垢

過量投加含磷酸根的化學品，通常很難清洗，建議更換新元件。

二氧化硅結垢

按清洗導則在pH12的條件下進行清洗，但膠體硅污堵的清洗十分困難，建議調整預處理，降低回收率。