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Diener 等離子蝕刻機 Tetra 8 RIE
·適用于8"以下樣品的處理
·等離子蝕刻機，可實現快速且一致的樣品表面刻蝕
·全局的工藝氣體通過氣浴進氣實現了均勻的氣體分布
·電極水冷確保了樣品的溫度不會偏高
·工業Windows控制系統，多段程序控制功能，實現一鍵蝕刻功能
·適合于研究院、高校、研發中心等使用，也可小批量生產
型號 | TETRA 8 RIE |
控制系統 | 基于軟件WINDOWS 10的PC控制系統 |
程序存儲 | 100套 |
工藝過程監控 | 二維折線圖與數字實時顯示 |
參數偏離值設定 | 初抽真空時間、進氣量偏差值，實際功率輸出值 |
報錯功能 | 顯示詳細的報錯信息 |
數據導入導出 | USB/TCP IP |
選程控制 | Team viewer |
工藝氣路 | 兩路進氣通道（兩路腐蝕性氣體） 一路沖洗管路 一路泄氣管路 |
流量計 | MFC流量計 |
真空腔體 | 圓形不銹鋼腔體腔體 尺寸：Φ280mm x D 127mm 約8L 腔體可做防腐 |
托盤 | 鋁板、不銹鋼板、硼硅玻璃 |
電極 | RIE(蝕刻專用)電極配有氣浴 電極水冷 |
冷卻系統 | 冷卻真空腔體和電極 |
發生器 | 13.56 MHz 0-600W 自動匹配 |
安全開關 | 門開關、皮拉尼開關、真空開關 |
真空壓力計 | 2pcs 電容式真空計 |
外形尺寸(W×H×D) | 1800mm×2200mm×1800mm |
電源 | AC 400 V / 50 - 60 Hz / 16 A |
真空泵 | 防腐真空泵抽速不低于90 m3/h 分子泵排氣速度 |
冷卻系統 | 冷水機對真空腔體，電極進行冷卻 |
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