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戴安074532 KOH淋洗液發生器用來電解產生高純度淋洗液等度或梯度淋洗。淋洗液發生器能避免基線漂移，增加靈敏度，提高分離度，保證色譜峰積分良好重復性。戴安公司目前提供一系列的淋洗液發生罐產品，包括氫氧根體系淋洗液發生罐，碳酸根體系淋洗液發生罐和甲磺酸體系淋洗液發生罐。
產品簡介
詳細介紹
戴安陰離子抑制器064554/082540
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064554 ASRS 300 (4 mm) 082540 AERS 500 (4 mm)
064555 ASRS 300 (2 mm) 082541 AERS 500 (2 mm)
064556 CSRS 300 (4 mm) 082542 CERS 500 (4 mm)
064557 CSRS 300 (2 mm) 082543 CERS 500 (2 mm)
戴安ERS 500抑制器具有相同的適應，形態和功能作為戴安SRS抑制因子300；他們已設計和驗證，直接解決所有的應用程序通過戴安SRS 300抑制器目前支持以下例外：
戴安ERS 500抑制不支持化學再生模式。熱電科學?戴安?MMS?微膜抑制器300推薦的化學再生模式。
戴安ERS 500抑制器的設計采用了大量的設計改進.戴安陰離子抑制器064554/082540
線性洗脫液路
EK洗脫和再生室設計
O形圈密封
優化再生通道，洗脫液的通道和電極配置,離子交換樹脂填充洗脫液室。降低洗脫液流路徑長度。串行再生流速,戴安ERS抑制因子500使用相同的膜和再生的屏幕為戴安SRS 300抑制，提供了相當的抑制性能。