超高分辨率電化學(xué)工作站主要技術(shù)參數(shù)：
* zui大電流電壓：5A/10V
* 數(shù)據(jù)采集：雙通道24位ADC
* 電流范圍：±1pA ~ ±10A
* 測量電流分辨率：所選電流量程的0.00006%，zui小0.6aA
* 施加電流分辨率：施加電流范圍的0.00013%
* 測量電位分辨率：所選電位量程的0.00001%，zui小0.15nV
* 施加電位范圍：±10V，0.02mV分辨率(20bit)
* 交流阻抗頻率：10μHz ~ 8MHz
* 交流阻抗動(dòng)態(tài)范圍：0.05nV~10V/0.2aA~5A
超高分辨率電化學(xué)工作站電化學(xué)技術(shù)和方法：
循環(huán)伏安和線性掃描：
電流平均、電流平均法、動(dòng)電流線性掃描法、歐姆降校正、可同時(shí)記錄外部輸入的信號(hào)、多種常規(guī)分析
功能（腐蝕速率和Tafel分析等）、掃描速率1μV/s~10,000V/s。
計(jì)時(shí)電流和計(jì)時(shí)電位：
可設(shè)置1~255個(gè)不同的電位/電流脈沖、標(biāo)準(zhǔn)配置取樣間隔zui小為10μs、歐姆降校正、可同時(shí)記錄外部
輸入信號(hào)、可進(jìn)行多達(dá)65535次循環(huán)測量。
混合模式：
可將控制電流、控制電位、開路電位OCP、控制電阻和控制功率任意組合，可以定義多達(dá)255個(gè)步驟。
施加以上直流信號(hào)的同時(shí)還可以測量體系的交流阻抗（如電池內(nèi)阻）。在混合模式方法中，引入恒電位
間歇滴定法PITT和恒電流間歇滴定法GITT，用來測量擴(kuò)散系數(shù)等參數(shù)。
電化學(xué)噪聲：
測量方法由兩個(gè)*相同工作電極和一個(gè)參比電極構(gòu)成的體系來完成，ECN模塊硬件已經(jīng)內(nèi)置于標(biāo)準(zhǔn)配
置儀器之內(nèi)，可同時(shí)記錄電位噪聲和電流噪聲。
交流阻抗：
可進(jìn)行恒電位頻率掃描、恒電流頻率掃描、動(dòng)電位頻率掃描、動(dòng)電流頻率掃描等多種電化學(xué)交流阻抗EIS
測量方法，可得到Bode圖、Nyquist圖、微分電容曲線、Mott-Schottky肖特基曲線等多種曲線圖，雙
正弦波電化學(xué)頻率調(diào)制。

光電化學(xué)：
標(biāo)準(zhǔn)配置模塊可提供紅外到紫外波長365nm~940nm范圍的六段單色光以及5500K白光，共七種可見
光。光強(qiáng)度同樣由IVIUM電化學(xué)工作站控制，既可以是固定強(qiáng)度的可見光，也可以是經(jīng)正弦波（頻率10μ
Hz~2MHz）調(diào)制的可變強(qiáng)度光源。另有四種可選光源可直接代替標(biāo)準(zhǔn)配置中的任何一個(gè)LED。

型號(hào)：IviumStat.h
擴(kuò)展型號(hào)：
-10A/10V
-5A/20V
-2A/50V
-100A/12V
-600mA/100V