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X 射線熒光技術可用于測定多種類型樣品的化學成分

時間:2019-3-21 閱讀:2286
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X 射線熒光 (XRF) 是可用于測定多種類型樣品(包括固體、液體、漿料和疏松粉末)化學成分的分析技術。 X 射線熒光還用于確定分層和涂層的厚度和成分。 它可以分析從鈹 (Be) 到鈾 (U) 的各種元素,涵蓋從 100 wt% 到百萬分之一以下的濃度范圍。

XRF 是一種可靠的技術,結合了高精度和準確性以及簡便、快速的樣品制備等優點。 它可以在要求實現高處理量的工業環境下自動完成使用準備,并且提供定性和定量的樣品相關信息。 這種定性和定量信息的輕松組合還使快速篩選(半定量)分析成為可能。
 

XRF 是一種原子發射方法,類似于光發射光譜 (OES)、ICP 和中子活化分析(伽馬光譜)。 此類方法可以測量由樣品中的帶電原子發出的“光線”(此情況下為 X 射線)的波長和強度。 在 XRF 中,來自 X 射線光管主 X 射線光束的輻照會使熒光 X 射線的輻射呈現出樣品中所存在元素的分散能量特征。 
 

用于樣品 X 射線熒光光譜分離(分散)、識別和強度測量的技術催生了兩種主要類型的光譜儀:波長色散式 (WDXRF) 和能量色散式 (EDXRF) 系統。

 

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