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等離子輔助MOCVD技術

NMC-4000（M）PA-MOCVD設備概述：

NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD),該系統具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10^-7Torr極限真空)、PC全自動控制，*的安全互鎖。

目前，這項技術延伸到5個4"晶圓的立柜式獨立批處理系統，該系統可以集成到集群配置中以滿足高產量的要求。

NMC-4000（M）PA-MOCVD設備應用：

• Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)

特點：

• 獨立系統
• 14”不銹鋼立方體腔體
• 1次在8”樣品臺上處理1個6”晶圓片或在12”樣品臺上處理5片4”片子
• 加熱的氣體管路
• RF等離子源，自動調諧
• 淋浴頭氣體分布
• 1100°C的旋轉樣品臺
• N2沖洗
• 手動放置晶圓片

Features：

• Stand Alone System
• 14” Stainless Steel Cube Chamber
• One 6” Wafer with 8” Platen or five 4” Wafers on 12” platen
• Heated Gas Lines
• RF Plasma Source with Auto Tuner
• Shower Head Gas Distribution
• 1100 °C Platen, Rotating
• N₂ Flush
• Manual wafer Loading and Unloading