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產品簡介
Nanosystem NV-1000白光干涉儀是利用白光干涉特性來進行表面形貌的測量，它結合了典型的WSI非常高的垂直分辨率和一個非常大的面積高達21.7毫米x16.3毫米。這使得高精度和大面積快速測量成為可能，而無需縫合。
詳細介紹
Nanosystem NV-1000白光干涉儀
WSI白光干涉/PSI相位干涉測量檢測設備，利用白光干涉現象以及干涉信號處理方式，高精度真實還原測量物體的輪廓原貌，解決了測量高精度物體時，只能破壞測量物做切片的難題。
設備測量應用涵蓋晶圓，液晶，等離子顯示板，半導體，透鏡曲率測量，印刷電路板等方面。縱向測量精度高達0.5nm/0.1nm（WSI/PSI）以下，平面測量精度高達到7.4nm以下。其高精度，廣領域度，客戶體驗度，受到了高精制造行業的喜愛。
設備原理
WSI白光干涉和PSI相位干涉原理雖然測量原理不同，但是除了使用單頻光和多頻光這一點不同外，使用同樣的光學和測量系統，因此可以在同一設備上進行使用。
兩種測量方法共同的特征是利用干涉信號進行處理。干涉信號是從任意光源同時出發的兩束光通過不同的光路后疊加時，根據兩束光的光路距離差產生明暗相間的物理現象。WSI/PSI設備正是使用了以上原理進行測量。
WSI測量原理
WSI（White-LightScannng Interferometry）的特征
-在掃描范圍內持續掃描后進行測量。
-在允許掃描的范圍內可以測量高度。
PSI測量原理
PSI（Phase ShiftingInterferometry）測量原理
PSI的特征
-中心波長（大約600nm）的1/4為間隔，進行4回掃描后測量。
-與掃描范圍無關，只能測量250nm以下的高度。
Nanosystem NV-1000白光干涉儀技術參數：
干涉物鏡：單透鏡可選
掃描范圍：0-180um（270um可選）
垂直分辨率：WSI：﹤0.5nm ，PSI ：﹤0.1nm
傾斜臺：±3°
Z軸行程：30mm（手動）
工作臺面：50X50mm（手動）