目錄:深圳市科晶智達科技有限公司>>薄膜制備設(shè)備>>蒸發(fā)鍍膜設(shè)備>> GSL-1800X-ZF2 蒸發(fā)鍍膜儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電氣 |
|---|
主要應(yīng)用于大專院校、科研機構(gòu)、企業(yè)實驗室及微小產(chǎn)品進行真空鍍膜等
真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)。
| 功能特點 |
|---|
采用桌面小型一體化結(jié)構(gòu)，將真空腔體、鍍膜電源及控制系統(tǒng)進行整合設(shè)計，體積與一臺A3打印機相仿。
采用電阻式雙蒸發(fā)源結(jié)構(gòu)，可快速實現(xiàn)蒸發(fā)源的轉(zhuǎn)換。蒸發(fā)單元中裝有兩組蒸發(fā)電極可安裝不同的蒸發(fā)源，
適應(yīng)相應(yīng)的鍍膜材料。
配有0.1%精度蒸發(fā)電源，并具有恒流輸出功能，對蒸發(fā)舟能起到很好的保護作用。
可選配石英晶體膜厚控制儀，在鍍膜過程中對鍍膜速率和膜層厚度進行控制。
可將采集到的鍍膜數(shù)據(jù)保存到U盤，便于用戶分析控制（選配）。
本機將所有功能設(shè)計成標準化模塊，根據(jù)用戶不同的需求對相應(yīng)模塊進行組合，以達到最好鍍膜環(huán)境，
并便于用戶維修與維護。
操作控制采用7英寸TFT顯示屏顯示操作界面，觸屏操作，實現(xiàn)全圖形化界面，易用易懂。
| 技術(shù)參數(shù) | |
|---|---|
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 |
| 水 | 設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） |
| 電 | AC220V 50Hz，必須有良好接地 |
| 氣 | 設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶?6mm雙卡套接頭）及減壓閥 |
| 工作臺 | 落地式，占地面積2m2以上 |
| 通風(fēng)裝置 | 需要 |
| 電源 | AC220V 1500W |
| 蒸發(fā)電源功率 | 1000W 5V 200A |
| 蒸發(fā)電極有效距離 | 44mm |
| 樣品臺 | ?120mm（可旋轉(zhuǎn)） |
| 膜厚測量精度 | 0.1?或0.01?（可選配高精度型） |
| 外接真空機組 | 擴散泵機組（可選配國產(chǎn)110機組或進口機組）（不建議使用擴散泵） |
| 極限真空度 | >3.0×10-3torr（擴散泵）、3.0×10-4torr（分子泵）（不建議使用擴散泵） |
| 工作真空度 | 5.0×10-3torr |
| 真空接口 | KF40 |
| 使用環(huán)境 | 溫度35℃，濕度<75%（相對濕度）不結(jié)露，海拔<1500m |
| 尺寸 | 440mm×240mm×260mm（不包括真空機組） |
| 重量 | 約47kg（不包括真空泵） |
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