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| 產地類別 | 國產 | 加熱方式 | 硅碳棒 |
|---|---|---|---|
| 價格區間 | 1萬-2萬 | 控溫精度 | 1℃ |
| 內部尺寸 | 300x200x200mm | 升溫速度（達到最高溫） | 40/min |
| 儀器種類 | 箱式爐 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,生物產業,綜合 |
| 最大功率 | 4000kW | 最高溫度 | 1400℃ |
產品簡介
詳細介紹
真空高溫爐通用功能
1、升溫速度快：20min內就可由室溫程序升溫至1000℃ ；
2、氣氛環境：真空環境，真空度可達－0.0099Mpa；
3、水冷卻系統：根據物料特性，溫度可達到1400℃，長時間連續工作溫度100~1300℃；
4、單路氣氛：設置氣體進出口及爐膛內氣體排出口；
5、進口紅外測溫儀，可以不接觸測試物料溫度，避免微波場干擾；
6、門體多重連鎖結構，開門斷電，保護操作人員，微波泄漏防護符合國標；
7、采用PLC自動控制，溫度功率均智能可控，觸摸屏操作；
8、微波功率可調，連續可調。
真空高溫爐重要技術參數
一、型號：AFD1100-50；
二、設備尺寸
a、工作區尺寸:D500(mm) * W400(mm) * H400(mm)；
三、機器結構
a、單門落地式，控制部分位于機臺下方；
b、爐門為從左至右打開。
四、主要技術參數
a、溫度范圍：RT～1300℃；
b、溫度波動度：±1.0℃；
c、溫度均勻度：≤±5.0℃；
d、溫度：1400 ℃；
e、額定溫度：1300℃；
f、加熱元件：硅碳棒
g、熱電偶型號：B型
h、四周表面溫度：≤ 溫升50℃；
i、升溫速率：≤ 20 ℃/ Min；
j、升溫速率：10 ℃/ Min；
K、降溫速率：≤ 15 ℃/ Min（爐膛溫度≥1000℃）；
l、降溫速率：≤ 10 ℃/ Min（爐膛溫度≤1000℃）；
m、加熱元件放在爐膛兩邊采用氣體對流和熱輻射加熱；
n、爐內真空度20Kpa，爐內正壓：max0.1Mpa；
o、爐膛內可通氫氣、氮氣，氧氣（少量）、氬氣等氣體。
五、內外材質
a、爐膛材料：1560型日本進口氧化鋁多晶體纖維（阿爾塞）；
b、外層SPCC鋼板防銹處理+粉體烤漆處理；
六、密封裝置
a、爐門與爐體采用硅橡膠密封，配有循環水冷卻裝置；
b、爐體采用雙層爐殼，外城爐殼采用硅橡膠密封；
七、溫控系統；
a、溫度控制為PID微電腦自動演算,PV/SV同時顯示按鍵設定；
b、溫度控制方式為P.I.D+S.S.R可控硅；
c、控制方式：40段程序控溫；
八、保溫及加熱方式
a、耐高溫纖維及空氣隔熱；
b、加熱方式為熱輻射及自然對流；
九、安全保護系統
a、保險絲；
b、過電流保護裝置、過溫保護裝置；
十、配件清單
a、流量計：1只；
b、高溫手套：一副；
c、氧化鋁墊磚：1 塊；
十、電源： 三相380V
功率：12KW
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