超聲波清洗作為清洗材料的手段已經廣泛應用于各個領域，等離子處理作為一種新的技術，逐漸為用戶所熟悉，這兩種方式在原理和目的上有一些區別。

       等離子體是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態，對氣體施加足夠的能量使之等離子化便成為等離子狀態，等離子體的“活性"組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子處理原理是在艙體內接近真空狀態時，開啟射頻電源，這時氣體分子電離，產生等離子體，并且伴隨輝光放電現象，等離子體在電場下加速，從而在電場作用下高速運動，對物體表面發生物理和化學作用，等離子的能量足以去除各種污染物，同時氧等離子可以將有機污染物氧化為二氧化碳和水蒸氣排出艙體外，等離子處理不需要其他的溶劑，只要空氣等其它氣體就能夠滿足要求（善準科技VP-R、VP-RS、VP-Q和VP-S系列真空等離子處理儀提供擴展應用，可以接入兩路氣體，常用的氣體氧氣、氬氣、氮氣、氫氣等），使用方便而且沒有污染。
       超聲波清洗原理主要是通過換能器，將功率超聲頻源的聲能轉換成機械振動，通過清洗槽將超聲波輻射到槽內的清洗液。由于受到超聲波的輻射，使槽內液體中的微氣泡能夠在聲波的作用下從而保持振動，破壞污物與清洗件表面的吸附，引起污物層的疲勞破壞而被駁離，氣體型氣泡的振動對固體表面進行擦洗。與超聲波清洗相比等離子處理不要放入水中，整個清洗過程在真空腔內，干燥潔凈，而且不但可以進行表面清洗，更重要的是可以提高表面活性，等離子體與物體表面進行化學反應能夠產生活性化學組團，這些化學組團有很高的活性，從而提高材料表面親水性，粘接能力，焊接能力，結合力等。