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nanoArch P130 2μm精度微納3D打印系統是科研級3D打印系統，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
| 光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學精度 2μm |
| XY打印精度 2μm~10μm | 打印層厚 5μm~20μm | 打印樣品尺寸 3.84mm(L)×2.16mm(W)×10mm(H)① |
| 打印文件格式 STL | 系統外形尺寸 1720mm(L)×750mm(W)×1820(H)mm3 | 重量 650kg |
| 電氣要求 200~240V AC，50/60HZ，3KW | 其他要求 部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊 | 設備功率 2000W |
注：①、樣品高度典型2mm，最高10mm
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫用樹脂等。
應用領域：
nanoArch P130 2μm精度微納3D打印系統可廣泛應用于力學超材料、生物醫療、微機械結構、微流控、三維復雜仿生結構等領域
企業簡介：
摩方精密（BMF,Boston Micro Fabrication）是全球微尺度3D打印技術及精密加工能力解決方案提供商。專注于精密器件免除模具一次成型能力的研發，提供制造復雜三維微納結構技術解決方案，同時，可結合不同材料及工藝，實現終端產品高效、低成本批量化生成及銷售。
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