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目錄:山東霍爾德電子科技有限公司>>實驗儀器>>游離二氧化硅前處理儀>> HD-Si12全自動游離二氧化硅前處理工作站

全自動游離二氧化硅前處理工作站
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參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
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  • 品牌 霍爾德?電子
  • 型號 HD-Si12
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 濰坊市
屬性

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更新時間:2025-02-08 09:04:24瀏覽次數(shù):443評價

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全自動游離二氧化硅前處理工作站依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場所空氣中粉塵測定 第4部分:游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟,自動完成添加焦磷酸、自動加熱攪拌、自動升溫、15分鐘消解過程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動降溫、自動注水、自動復(fù)溫、自動過濾、自動清洗等功能,整個過程無需人員值守,實現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動化。

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全自動游離二氧化硅前處理工作站


全自動游離二氧化硅前處理工作站主要技術(shù)參數(shù)

*2.1全自動一體機,自動完成加焦磷酸、消解、降溫、過濾、清洗等實驗步驟,滿足國標(biāo)要求,保證數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性。

*2.2儀器具有加水后復(fù)溫功能,過濾過程中,可對液體實時混勻,混勻速度可調(diào)。

*2.3配備≥12個樣本位,≥12個過濾位。特制玻璃樣品杯,保障樣品快速均勻加熱,特制過濾裝置,耐酸堿耐高溫,實現(xiàn)快速過濾。樣本可連續(xù)上機,實現(xiàn)不停機做樣。

2.4運行過程中無需轉(zhuǎn)移樣品,減少樣品在不同器皿之間轉(zhuǎn)移過程中的損失。

2.5儀器可以自動添加焦磷酸至樣品中,無需手工添加。

2.6儀器具有自動降溫功能,消解后樣品架離開加熱位,完成快速降溫。

2.7自動控溫加熱,10min內(nèi)液體升溫至245℃,15分鐘保持在245℃-250℃。

*2.8采用雙感溫控探頭,實時監(jiān)控液體溫度,控溫精度±0.1℃。

2.9儀器采用一體恒溫加熱模組,各加熱位溫度均勻一致。

2.10儀器采用耐酸堿高精度計量泵,加液精度<1%。

2.11特制攪拌棒,攪拌測溫一體設(shè)計,攪拌速度可調(diào)節(jié),保證樣品攪拌均勻。

2.12具有磷酸制備焦磷酸功能,可自動加磷酸,在線制備焦磷酸。


主要配置清單

3.1全自動游離二氧化硅前處理工作站主機             1臺

3.2 特制樣品杯                                    12個

3.3 特制過濾裝置                                  12個

3.4 硅膠管                                        1套

3.5 廢液桶                                        1個

3.6 試劑桶                                        1個

3.7 實驗用水自動加熱恒溫裝置                      1套

3.8 系統(tǒng)控制軟件                                  1套

3.9 慢性定量濾紙                                  1盒

3.10自動加焦磷酸裝置(選配)                     1套


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