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參考價	面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品分類 品牌分類

光催化及光敏材料測試設(shè)備

光催化專用太陽光模擬器高準(zhǔn)直紫外光源
鈣鈦礦LED/OLED測試設(shè)備

發(fā)光效率測量系統(tǒng) 光譜分析系統(tǒng) 光電性能測量系統(tǒng)
日本SAN-EI 太陽光模擬器

LED太陽光模擬器 AAA+級雙光太陽光模擬器 AAA太陽光模擬器 150W 太陽光模擬器聚光太陽光模擬器太陽能電池IV性能測試儀太陽能電池組件測試儀太陽能電池測試多通道太陽能電池穩(wěn)定性測試 OLED模擬軟件太陽能電池穩(wěn)定性測試太陽能電池載流子測試光纖太陽光模擬器光譜響應(yīng)/量子效率量測儀全光譜太陽光模擬器太陽能電池量子效率測試系統(tǒng) AAA級太陽光模擬器雙燈太陽光模擬器穩(wěn)態(tài)太陽光模擬器瞬態(tài)光電流/光電壓測試系統(tǒng) 太陽能電池載流子測試設(shè)備載流子擴(kuò)散長度測試系統(tǒng)
薄膜性能測試設(shè)備

薄膜應(yīng)力測試儀薄膜熱應(yīng)力測量系統(tǒng) 薄膜生長速率測試儀薄膜/涂層殘余應(yīng)力儀電池電極應(yīng)力測試系統(tǒng) 薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng) 原位薄膜應(yīng)力測試儀薄膜應(yīng)力測試系統(tǒng) kSA BandiT實時襯底溫度測試儀 kSA 400 RHEED分析系統(tǒng) 反射高能電子衍射儀 RHEED 應(yīng)力測量系統(tǒng)
共聚焦顯微鏡

電化學(xué)反應(yīng)共聚焦系統(tǒng) 三維光學(xué)共聚焦顯微鏡三維表面輪廓儀
激光光束質(zhì)量分析儀

激光質(zhì)量分析儀 UV光束分析儀 Shack-Hartmann波前傳感器 EUV/XUV波前傳感器波前曲率傳感器光熱弱吸收測量儀高功率激光材料測試儀大光斑激光光束分析儀高功率激光光束分析儀激光光束分析儀
納米材料制備設(shè)備

石墨烯制備系統(tǒng)（CVD）噴霧熱解成膜系統(tǒng) 碳納米管CVD制備系統(tǒng) 原子層沉積系統(tǒng) 卷對卷涂布系統(tǒng) 涂布機
微納米加工設(shè)備

桌面型激光直寫系統(tǒng) 臺式無掩膜光刻系統(tǒng) 納米壓印系統(tǒng)
介電/壓電材料測試設(shè)備

電卡效應(yīng)測試儀高溫介電測試系統(tǒng) 熱釋電測試儀熱刺激電流測試儀精密壓電系數(shù)測試儀高分子壓電系數(shù)測試儀高場寬頻譜介電測量系統(tǒng) 低溫寬頻介電測量系統(tǒng) 電滯回線及高壓介電擊穿強度測試系統(tǒng) 高壓漏電流及熱釋電測量系統(tǒng) 電容充放電測試儀
太陽能電池測試設(shè)備

瞬態(tài)光電壓測試瞬態(tài)光電流測試太陽能電池老化測試太陽能電池老化壽命測試儀鈣鈦礦太陽能電池測試儀太陽能電池單體測試儀太陽能電池測試夾具太陽能電池IV測試軟件
氙燈電源
高純度鈣鈦礦前驅(qū)體材料
其他相關(guān)設(shè)備

產(chǎn)品簡介

產(chǎn)地類別	進(jìn)口	應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,能源,電子/電池,電氣,綜合

UV光束分析儀/UV激光光束質(zhì)量分析儀可實現(xiàn)高分辨率實時空間光束的監(jiān)測、定量表征與強度分布。用于所有脈沖或連續(xù)波激光器以及非相干光源，檢測器CCD芯片上量子轉(zhuǎn)換涂層保證了UV檢測的高靈敏度。

詳細(xì)介紹

UV光束分析儀/UV激光光束質(zhì)量分析儀可實現(xiàn)高分辨率實時空間光束的監(jiān)測、定量表征與強度分布。主用于所有脈沖或連續(xù)波激光器以及非相干光源，檢測器CCD芯片上量子轉(zhuǎn)換涂層保證了UV檢測的高靈敏度。

主要特點

UV光束分析儀/UV光束特性分析

‐ zhun分子激光器 @193nm, 248nm, 351nm

‐ 固體激光器 @355nm, 266nm, 213nm

‐ UV LEDs, UV/VUV lamps

寬光譜靈敏度：VUV ‐ DUV ‐ Vis ‐ NIR

實時光學(xué)調(diào)節(jié)

基于ISO光束參數(shù)測量

衰減單元（可選）

UV光束分析儀

Homogenized KrF

excimer laser (248nm)

UV光束分析儀

Mask projection of

excimer laser beam

主要技術(shù)規(guī)格

波長范圍~100nm …1100nm

（<~320nm:高線性和穩(wěn)定性的量子轉(zhuǎn)換涂層；<190nm: N2/ Ar purging required）

視場尺寸：20mmX14mm（其他尺寸可選）

相機：CMOS 4MPixel, 12 Bit, USB3.0

幀率：up to 15fps

曝光時間：20us to 1s

衰減單元：棱鏡衰減器（因子1000：1）

中性密度濾片

UV光束分析儀

Near‐field and far‐field

profile of ArF excimer laser

(193nm), indicating 2nd

moment beam widths

UV光束分析儀

Beam profile of

misaligned 355nm laser

UV光束分析儀

Beam Analysis software

光束測試軟件

UV光束分析儀

測試基于ISO標(biāo)準(zhǔn)

Parameter	Standard
Beam diameter光束直徑	ISO 11146
Divergence	ISO 11146
Beam profile光束剖面	ISO 13694
Pointing 指向/ pos. Stability位置穩(wěn)定性	ISO 11670
M2 質(zhì)量因子/ Focusability聚焦性	ISO 11146
Wavefront 波前 / Phase distribution相位分布	ISO 15367
Coherence 相干	-
Around 20 various camera types are supported

巨力光電（北京）科技有限公司立足于北京市副中心通州區(qū)，專門經(jīng)銷歐洲、美國、日本等國家制造的科學(xué)儀器設(shè)備，為客戶提供完備的售前咨詢和售后服務(wù)、技術(shù)支持。公司骨干在該行業(yè)有超過10年的經(jīng)驗，專業(yè)的服務(wù)水平、完善的售后服務(wù)體系。

目前主要產(chǎn)品涉及材料科學(xué)、微納米技術(shù)、表面測量和光電器件、光伏產(chǎn)品、半導(dǎo)體器件的檢測與研發(fā)等領(lǐng)域。公司本著以科技為導(dǎo)向、以客戶為中心、以服務(wù)為宗旨，竭誠為新老客戶提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)！