科研鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。
需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。基片與靶材同在真空腔中。
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜。
科研鍍膜機產品參數：
1.運行速度: 0.1-600 mm/min
2.行程: 100 mm,位移精度:±0.1 mm
3.額定線性推力: >50 N
4.浸漬時間:0-9999.9 s
5.重復鍍膜間隔時間0-9999.9 s
6.重復鍍膜步驟：1-999次,重復鍍膜間隔時間:0-9999.9s
7.晶片選擇尺寸：大長100mm
8.4.3寸全彩觸屏，簡單易用，標配觸屏筆操作
9.結構緊湊，易于放置在手套箱內使用
10.自帶幫助功能，對初次使用者提供使用向導功能
11.提供手動上下高度調節，方便位置設置
12.可命名存貯100組鍍膜程序，方便隨時調用
13.產品外形尺寸：227(W)*350(D)*416(H)
在DP100-BE基礎上增加底部加熱功能：
1.控溫范圍：室溫到120℃(更高溫度可定制)
2.高精密數顯溫控表控制，控溫精度：±0.5℃
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