實驗室真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發，電子槍加熱蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。
2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成。
3.該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結構緊湊，占地面積小。
4.主要用途：
1. 開發納米級單層、多層及復合膜層等。
2. 制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質膜等，例：銀、鋁、 銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、氮化鈦、氮化鉻、ITO......
3. 兩靶單獨濺射、依次濺射、共同濺射。
5.應用領域：
1. 高校、科研院所的教學、科研實驗及生產型企業前期探索性實驗及開發新產品等。
2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業。
適用范圍：
1.建筑五金：衛浴五金(如水龍頭).門鎖.門拉手.衛浴、五金合葉、家具等。
2.制表業：可用于表殼.表帶的鍍膜、水晶制品。
3.其它小五金：皮革五金.不銹鋼餐具.眼鏡框、刀具、模具等.
4.大型工件：汽車輪轂、不銹鋼板.招牌.雕塑等。
5、不銹鋼管和板(各種類型表面)
6、家具、燈具、賓館用具。
7、鎖具、拉手、衛浴五金、高爾夫球頭、不銹鋼餐具、器皿等五金制品鍍超硬裝飾膜。
8、手表、表帶、眼鏡、首飾等裝飾品鍍超耐磨裝飾(金銀)納米膜和納米膜和納米疊層膜。
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