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| 應用領域 | 綜合 |
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Hellma CVD 硒化鋅®紅外激光器用光學材料
化學氣相沉積 CVD 硒化鋅®由于其在 10.6 µm 波長處的體吸收率較低，因此成為高功率 CO 2激光器中光學元件的首要選擇材料。其折射率均勻性和均勻性提供了出色的光學性能，可用作高分辨率前視 (FLIR) 熱成像設備中的保護窗或光學元件。
這種材料還可用作醫療和工業應用（例如測溫和光譜學）中的小窗口和透鏡。
CVD 硒化鋅®具有化學惰性、不吸濕、高純度、理論上致密且易于加工。它由于吸收和散射而造成的體積損失極低，具有很高的耐熱沖擊性，并且在幾乎所有環境中都很穩定。定制直徑、矩形、CNC 成型毛坯、生成透鏡毛坯、棱鏡和近凈形狀圓頂可根據您的規格制造。
優點
出色的紅外透過率（高達 20μm）
化學惰性
對熱和環境影響具有高抵抗力
不吸濕
易于機械加工
光學特性
10% 傳輸限制 (t=6mm)：0.5µm – 22µm
折射率不均勻性 (Dn/n)：<3ppm @633nm
熱性能
導熱系數 [JK-1m-1s-1] @298K：18.0
熱容量 [Jg-1K-1] @298K：0.339
物理特性
晶體結構：立方晶粒
尺寸：50-70µm
密度 [g cm-3] @298K：5.27
化學純度 [%]：99.9996
Hellma CVD 硒化鋅®紅外激光器用光學材料
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