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清洗系統是利用化學和物理特性去除材料表面不需要的物質的裝置。
用于精密儀器、半導體、顯示器等制造過程。如果清潔設備使用不當，可能會出現大量缺陷產品和產量。
清洗方法有超聲波清洗、噴淋清洗、刷洗、干洗、溶劑清洗等多種。就半導體制造而言，有超過500道制造工序，據說清洗工序占其中的30%～40%。
清潔設備的使用目的
具體清潔設備使用示例如下。
半導體工藝中的硅片清洗
清洗金屬過濾網上附著的污垢
去除切割后金屬表面附著的金屬粉末
清洗設備的選擇要考慮污垢的種類、清洗對象的大小、清洗時間、清洗精度等。清潔方法、使用的清潔劑和干燥方法也很重要。
