蔡司ZEISS 聚焦離子束電鏡Crossbeam系列詳細說明：

蔡司ZEISS 聚焦離子束電鏡Crossbeam系列探索全新的 FIB 加工方法--從大尺寸到納米精度切割：

充分利用 lon-sculptor FIB 鏡筒在低電壓下的出色性能來提升樣品質量。降低精密樣品的非晶化程度，可在減薄拋光后獲得出色的樣品效果，同時具有快速切換束流的優勢，加速 FIB 的應用。

您也可以選擇出色的大束流性能，使 FIB-SEM 3D 應用的采集速度提高一倍。圖像采集的過程十分穩定確保您獲得準確且高度可重復的結果。鏡筒設計使其束流范圍橫跨五個數量級，即從1pA 到 100 nA。高達 100 nA 的束流能快速準確地移除材料，并完成切割流程同時，低束流下可獲得小于3nm 的高 FIB分辨率。在2 μA 的發射電流下工作時，鎵聚焦離子束源，即 LMIS(液態金屬離子源)的常規使用壽命高于 3000 uAh。通過自動離子源加熱功能，Crossbeam 系列產品能夠完成超長持續時間的實驗。