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供應(yīng)簡介

液晶顯示器件、觸摸屏、半導體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料
臭氧濃度檢測儀用UV燈管
SEN日森小王子冷陰極筆式燈 365nm 燈管

詳細介紹

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SEN日森
紫外線清洗
紫外光清洗的工作原理
紫外光清洗技術(shù)是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除黏附在材料表面上的有機物質(zhì)，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達到“原子清潔度"。更詳盡的講：UV光源發(fā)射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量,當這些光子作用到被清洗物體表面時,由于大多數(shù)碳氫化合物對185nm波長的紫外光具有較強的吸收能力,并在吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用。空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長的紫外光后也會產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳氫化合物的分解物可化合成可揮發(fā)的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，清除了黏附在物體表面上的碳和有機污染物。清洗時，使基板治濕性向上。玻璃基板是以滾輪方式輸送，上方裝置低壓水銀燈產(chǎn)生紫外線照射。玻璃基板所累積紫外線能量愈多，其表面水接觸愈小，成反比關(guān)系。一般STN-LCD制作過程中，需求的玻璃基板累積紫外線能量為300nj/cm2(2537nm)以上。而彩STN-LCD及彩色濾光片制作過程中，要求的玻璃基板累積紫外線能量600mj/cm2(2537nm)。

產(chǎn)品特點：

UV光清洗機PL16-110

1.本裝置是為了運用短波長紫外線進行表面處理、干式清洗的效果而作的試驗機。

2.試驗臺到光源使用特定的升降機可以任意改變高度，照度可以使用照度計測定。

3.抽出式試驗臺，旋轉(zhuǎn)式照射臺等多種姊妹產(chǎn)品供您選擇。

產(chǎn)品描述：

桌上型表面處理裝置其主要原理為紫外線燈發(fā)出的185nm波長和254nm波長具有很高的能量，高于大多數(shù)有機物的結(jié)合能量。

由于大多數(shù)碳氫化合物對185nm波長的紫外線具有較強的吸收能力，并且可以在吸收185nm波長后分解成離子，流離態(tài)原子，受激分子和中子等，這就是光敏作用。

空氣中的氧分子在吸收了185nm波長的紫外光后，會產(chǎn)生臭氧和氧氣，臭氧對254nm波長具有很強的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。

氧原子具有氧化性，可以將碳氫化合鍵切斷，生成水和二氧化碳等易揮發(fā)氣體，從被照射物表面飄逸出，清除物體表面的污染物。

規(guī)格：

適用范圍液晶顯示器件、觸摸屏、半導體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術(shù)、主要材料：ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅芯片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理。可以去除污垢：有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等使用紫外線清洗時要注意以下幾個方面：

（1）污垢中的無極成分或處理后的灰分會殘留在物體表面，因此需要采用相應(yīng)的辦法進一步清除，如加裝真空除塵或與超聲波干洗配套使用。

（2）處理時，當清洗對象表面與照射光源距離稍遠時，產(chǎn)生的臭氧會自動分解失去作用，一定要注意清洗表面與光源的距離，也就是注意平臺或傳送帶上工件的高度或厚度。

（3）這種處理方法要求紫外線能透過清洗對象表面，對有立體結(jié)構(gòu)的清洗對象不太適合，只能清洗表面結(jié)構(gòu)的物體。

（4）由于需防止臭氧擴散對人體造成損害，需要在封閉裝置中進行清洗。

（5）由于臭氧是通過氧化反應(yīng)去除污垢的，所以容易被氧化的表面不能用這種方法處理。

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