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線性微透鏡陣列
熔融石英和硅基底
1x4 和 1x8 透鏡陣列配置
是光纖耦合和準直的理想選擇
通用規格
透鏡剖面:
Spherical
注意 :
Linear arrays are centered on the part and surrounded by inactive lenses.

詳細介紹

線性微透鏡陣列產品規格：

產品編碼	Dia. (mm)	基底	涂層
21-172	0.18 (of each lens)	Fused Silica (Corning 7980)	BBAR (1260-1675nm), Lens Side
21-173	0.18 (of each lens)	Fused Silica (Corning 7980)	BBAR (1260-1675nm), Lens Side
21-174	0.53 (of each lens)	Fused Silica (Corning 7980)	BBAR (1250-1620nm)
21-175	0.53 (of each lens)	Fused Silica (Corning 7980)	BBAR (1250-1620nm)
21-176	0.23 (of each lens)	Silicon	BBAR (1250-1620nm)
21-177	0.23 (of each lens)	Silicon	BBAR (1250-1620nm)
21-178	0.69 (of each lens)	Silicon	BBAR (1250-1620nm)
21-179	0.69 (of each lens)	Silicon	BBAR (1250-1620nm)
21-180	0.69 (of each lens)	Silicon	BBAR (1250-1620nm)
21-181	0.69 (of each lens)	Silicon	BBAR (1250-1620nm)
21-182	0.53 (of each lens)	Silicon	BBAR (1250-1620nm)
21-183	0.53 (of each lens)	Silicon	BBAR (1250-1620nm)

線性微透鏡陣列采用熔融石英和硅材料基底，由4個或8個透鏡組成。硅材料折射率高，可實現短焦距、高數值孔徑透鏡陣列設計，而熔融石英具有良好的熱穩定性和可見光傳輸，便于對準。用于在光纖到光纖或激光到光纖應用中準直和耦合光纖陣列，例如與半導體激光二極管一起使用。這些透鏡為近紅外（NIR）設計了增透鍍膜，用于1310和1550nm，是近紅外激光器或電信設備的理想選擇。