掃描電子顯微鏡具有辯率高、景深大、成像立體感強的特點，能同時分析形貌和成分，可用于形貌觀察、顯微結構分析、微區成分分析、斷口形貌和成分分布分析等，還可進行樣品的原位動態觀察和特定環境實驗，在材料、納米科學、地質、礦產、冶金、機械、化學、化工、物理、電子、生物、醫學等領域都有廣泛的用途。
場發射掃描電鏡是一種高分辨率的電子顯微鏡技術，可用于觀察樣品表面的微觀結構。它使用場發射電子源產生高能電子束，并通過透鏡系統將電子聚焦到樣品表面上。樣品與電子束相互作用后，產生的反射、散射和二次電子等信號被收集并轉換成圖像。
掃描電子顯微鏡以電子束為光源，以光柵式掃描方式將精細聚焦的電子束照射到樣品上。二次電子、背散射電子等。電子與樣品之間相互作用所產生的電子然后被收集和處理，以獲得顯微形貌的放大圖像。
主要功能用途：
場發射掃描電子顯微鏡(FESEM)具有高分辨率，能做各種固態樣品表面形貌的二次電子像、反射電子像觀察及圖像處理。
具有高性能X射線能譜儀，能同時進行樣品表層的微區點線面元素的定性、半定量及定量分析，具有形貌、化學組分綜合分析能力。
場發射掃描電子顯微鏡的原理是利用二次電子或背散射電子成像，對樣品表面放大一定的倍數進行形貌觀察，同時利用電子激發出樣品表面的特征X射線來對微區的成分進行定性定量分析，是我們材料研究分析中一雙亮麗的“眼睛”。
掃描電鏡按照電子槍分類可以分為鎢(W)燈絲、六硼化鑭(LaB6)燈絲、場發射(FieldEmission)三種，場發射掃描電鏡相比于鎢燈絲、六硼化鑭，具有電子束斑小、高分辨率、穩定性好等特點。
場發射掃描電子顯微鏡的優點：
(1)有較高的放大倍數，20-30萬倍之間連續可調；
(2)有很大的景深，視野大，成像富有立體感，可直接觀察各種試樣凹凸不平表面的細微結構；
(3)試樣制備簡單，目前的掃描電鏡都配有X射線能譜儀(EDS)裝置，這樣可以同時進行顯微組織形貌的觀察和微區成分分析。
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