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快速升溫CVD系統RTP-1000-F3LV

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更新時間:2024-03-12 17:16:46瀏覽次數:369

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產品簡介

產品簡介:快速升溫CVD系統RTP-1000-F3LV是專為半導體基片、太陽能電池及其它樣品(尺寸可達3″)的退火而設計,配有3路流量計和機械泵

詳細介紹


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產品簡介: 快速升溫 CVD 系統 RTP-1000-F3LV 是專為半導體基片、太陽能電池及其它樣品(尺寸可達

3″ )的退火而設計, 配有 3 路流量計和機械泵。本機采用 9KW 的紅外燈進行加熱, 升溫速度可達

100/s ,配有 RS485 接口,可以通過控制軟件在計算機上控制運行并顯示溫度曲線。



產品型號

快速升溫 CVD 系統 RTP-1000-F3LV

安裝條件

本設備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。


1、水:不需要


2、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地


3、氣:設備腔室內需充注氣體,需自備氣瓶氣源


4、工作臺: 尺寸 600mm×600mm×700mm ,承重 50kg 以上


5、通風裝置:需要

主要特點

1 、雙層 Al2O3 纖維鋼構,無需水冷或風冷。


2、內爐膛表面涂有進口高溫氧化鋁涂層,可以提高設備的加熱效率及延長儀器的使用壽命。


3 PID 控制器 ,可以設置 30 段升降溫程序,并設有過熱保護和斷偶功能。


4 、已通過 CE 認證。

技術參數

1 、電源: 單相 208V-240V AC    50Hz/60Hz    9KW


2、石英管: 外徑 ?110mm ,內徑 ?103mm ,長 380mm


3、加熱元件:紅外燈管, 直徑 ?10mm ,長 300mm


4、加熱區: 300mm





5 、工作溫度: 溫度 1100


6 、控溫精度:±0.5


7、升溫速度: RT-800℃時為 50/s 800-1000℃時為 10/s


8、溫控儀:可控硅( SCRPID 自動控制


9 、真空法蘭: 不銹鋼,帶有水冷接口和針閥,雙層高溫 O 型圈密封,長時間在>900℃條件下 運行必須采用水冷, 循環水流量為 0.5m3/hr


10、真空度: 10-3torr


11、流量計: 3 個, 量程 40cc/min-400cc/min ,精度 4%FS

產品規格

尺寸: 爐體 760mm×330mm×530mm ,真空混氣系統 600mm×600mm×597mm


重量: 爐體 45kg ,真空混氣系統 30kg

可選配件

防腐型數字式真空顯示計


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