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[供應]TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀
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  • TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀
更新時間:
2024-12-29 21:00:07
有效期:
2024年12月29日 -- 2025年6月29日
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產品簡介

產品簡介:TFMS-LD是一款反射光譜薄膜測厚儀,可快速精確地測量透明或半透明薄膜的厚度,其測量膜厚范圍為15nm-50um,儀器所發出測試光的波長范圍為400nm-1100nm

詳細介紹

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產品簡介:TFMS-LD 是一款反射光譜薄膜測厚儀,可快速精確地測量透明或半透明薄膜的厚度,其測量膜

厚范圍為15nm-50um儀器所發出測試光的波長范圍為400nm-1100nm。此款測試系統理論基礎為鏡面反

纖反射探頭。儀器尺寸小巧,方便于在實驗室中擺放和使用。

 

產品型號

TFMS-LD 反射光譜薄膜測厚儀

測量膜厚范圍

15nm-50um

光譜波長

400 nm - 1100 nm

主要測量透明

或半透明薄膜

厚度

img3氧化物

氮化物

光刻膠

半導體(硅,單晶硅,多晶硅等)

半導體化合物(ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS 等)

硬涂層(碳化硅,類金剛石炭)

聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)

金屬膜

 

特點

測量和數據分析同時進行,可測量單層膜,多層膜,無基底和非均勻膜

 

 

包含了 500 多種材料的光學常數,新材料參數也可很容易地添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA 

體積較小,方便擺放和操作

可測量薄膜厚度,材料光學常數和表面粗糙度

使用電腦操作,界面中點擊,即可進行測量和分析

精度

0.01nm  0.01%

準確度

0.2%或 1nm

穩定性

0.02nm  0.02%

光斑尺寸

標準 3mm,可以小至 3um

要求樣品大小

大于 1mm

分光儀/檢測器

400 - 1100 nm 波長范圍

光譜分辨率: < 1 nm

電源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W

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光源

5W 的鎢鹵素燈

色溫: 2800K

使用壽命:1000 小時

反射探針

光學纖維探針, 400um 纖維芯

配有分光儀和光源支架

載樣臺

測量時用于放置測量的樣品

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通訊接口

USB 接口,方便與電腦對接

TFCompanion

軟件

強大的數據庫包含兩 500 多種材料的光學常數(n:折射率, K:消失系數)

 

 

 

誤差分析和模擬系統,保證在不同環境下對樣品測量的準確性

可分析簡單和復雜的膜系

 

img8

設備尺寸

200x250x100mm

重量

4.5kg

 

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