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玉崎科學儀器（深圳）有限公司
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產品介紹
日本ULVAC愛發科半導體間歇式真空沉積設備
日本ULVAC愛發科半導體間歇式真空沉積設備
間歇式高真空蒸發設備EI系列
間歇式高真空蒸發設備ei系列是一種在基材上形成金屬和氧化物薄膜的設備。排氣作業及成膜作業可在操作面板的集中控制下自動進行，適合研究開發及小規模生產。
特征
可配備各種蒸發源（EB、電阻、EB+電阻）
根據工藝（升空、行星、衛星等）的基材支架
兼容Φ2英寸至6英寸基板、矩形基板、硅、化合物、玻璃和陶瓷基板。
液晶觸摸屏集中顯示和操作
使用 PC 的出色操作性和功能（配方功能、數據記錄、維護輔助功能）
目的
功率器件等相關化合物
LED、LD、高速器件
用于各種實驗
其他一般電子零件
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