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上海麥科威半導體技術有限公司
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直寫光刻機

參  考  價面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號MicroWriter ML3

品       牌其他品牌

廠商性質代理商

所  在  地上海市

更新時間:2025-04-26 18:45:36瀏覽次數:95次

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小型臺式無掩膜光刻機- MicroWriter ML3是英國公司專為實驗室設計開發,為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。

小型臺式無掩膜光刻機- MA1200


小型臺式無掩膜光刻機- MicroWriter ML3是英國公司專為實驗室設計開發,為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。

傳統的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業供應商提供,但是在研發環境中,掩膜板的設計通常需要經常改變。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板的方法,克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統工藝不同,激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關,在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

MA1200 是一款多功能激光直寫光刻系統,具有結構小巧緊湊(70cm x 70cm x 70cm),無掩膜直寫系統的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點。采用集成化設計,全自動控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實驗室桌面。       

                                直寫光刻機         

                                                      

 產品特點 

Focus Lock自動對焦功能
Focus Lock技術是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測,并通過Z向調整和補償,以保證曝光分辨率。

光學輪廓儀
MicroWriter ML3 配備光學輪廓探測工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向高精度100 nm,方便快捷。

直寫光刻機

直寫光刻機

標記物自動識別
點擊“Bulls-Eye"按鈕,系統自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后,將自動將其移動到顯微鏡中心位置。

直寫前預檢查
軟件可以實時顯微觀測基體表面,并顯示預直寫圖形位置。通過實時調整位置、角度,直到設計圖形按要求與已有結構重合,保證直寫準確。

直寫光刻機

直寫光刻機

簡單的直寫軟件
MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統下運行。

Clewin 掩膜圖形設計軟件
●  可以讀取多種圖形設計文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
●  可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式
●  書寫范圍只由基片尺寸決定

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