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產品簡介
| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 綜合 |
|---|
質量流量控制器是一種被使用在半導體,液晶面板以及其他電子設備制造工程當中,控制氣體或液體質量流量的高精密儀器。
產品介紹
LINTEC琳得科 質量流量控制器 MM-3202L-TN
LINTEC琳得科 質量流量控制器 MM-3202L-TN
質量流量控制器（Mass Flow Controller，MFC）是一種用于精確測量和控制氣體或液體質量流量的關鍵工業設備。
質量流量控制器主要由質流傳感器、分流器、制閥以及控制回路所構成。當氣體流入后，部分的氣體從分流器導入質流傳感器，由質流傳感器所輸出的流量信號比對設定的流量信號，反饋調節控制閥的開度，以此進行流量的控制。
核心技術架構
傳感系統：
熱式傳感：基于King's Law原理，采用毛細管式或旁路式設計，溫度分辨率達0.01℃
壓差式傳感：基于層流元件和壓差傳感器組合，適用于大流量范圍（0.1-5000SLM）
科里奧利式：直接質量測量，精度可達±0.1%讀數
閥體系統：
壓電瓷閥（響應時間<10ms）
電磁比例閥（壽命>10?次循環）
| 溫度 | 使用圧力 | 精度 | 最小F.S. | 最大F.S. | 密封件 | |
| low | 80~120℃ | 400kPa(D) | ±1%F.S. | 10SCCM | 25SLM | Au |
| high | 100~120℃ | 400kPa(D) | ±1%F.S. | 10SCCM | 25SLM | Au |
技術驗證數據
案例1：半導體刻蝕工藝
控制氣體：Cl?/HBr混合氣
流量范圍：50-200sccm
穩定性測試：8小時波動<±0.3%
典型應用場景
1. 半導體制造：
晶圓刻蝕工藝（Cl?、CF?等特種氣體控制）
CVD沉積（SiH?/N?O流量比控制±1%）
離子注入（BF?/PH?精確配氣）
2. 新能源領域：
燃料電池氫氣供應（動態響應<50ms）
光伏硅烷沉積（流量波動<±0.3%）
3. 制藥行業：
生物反應器氣體供應（O?/CO?/N?三聯控）
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