GU-AI系列離子加工儀器具有優(yōu)秀的無(wú)磁聚集離子束設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)高效的大面積樣品加工，并可將樣品表面的損傷層或變形層降至低，獲得樣品內(nèi)部真實(shí)的結(jié)構(gòu)信息。

　　GU-AI8000是可獲得高質(zhì)量平整面的離子研磨儀。無(wú)論是截面樣品制備,亦或是大面積平面拋光，GU-AI8000均可以提供有效的解決方案，其可制備多種材料類型樣品，包括金屬樣品、多孔樣品、脆性樣品、復(fù)合材料樣品.…適用于電子電器行業(yè)、新能源行業(yè)、汽車行業(yè)、地質(zhì)行業(yè)等。GU-AI8000是可獲得高質(zhì)量平整面的離子研磨儀。無(wú)論是截面樣品制備,亦或是大面積平面拋光，GU-AI8000均可以提供有效的解決方案，其可制備多種材料類型樣品，包括金屬樣品、多孔樣品、脆性樣品、復(fù)合材料樣品.…適用于電子電器行業(yè)、新能源行業(yè)、汽車行業(yè)、地質(zhì)行業(yè)等。

　　產(chǎn)品參數(shù)

　　離子源：雙離子源，安裝角度90°、180°可選；

　　離子束能量：0—10KeV；

　　離子槍與樣品加工面夾角：0—180°；3°、6°或9°；

　　加工速率：≤300um/h，Si；---；

　　可容樣品尺寸：≤25×12×30mm；≤25×25×30mm；

　　擋板材料：鉬或鈦；---；

　　真空泵：隔膜泵＋渦輪分子泵（無(wú)需冷卻水）

　　大氣到工作狀態(tài)不高于3min；

　　制冷：半導(dǎo)體制冷-30℃；

　　工作氣體：氬、氦、氧、氙；

　　保護(hù)功能：過(guò)流、真空雙保護(hù)；

　　控制系統(tǒng)：基于開源操作系統(tǒng)自主研發(fā)，具有自主產(chǎn)權(quán)。