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iCAP Qc ICPMS 測定高純氧化鉬中 Cd 等痕量雜質(zhì)

閱讀:539      發(fā)布時(shí)間:2019-04-12
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鉬具有耐高溫,低膨脹系數(shù),在合金中添加鉬能起到耐熱和耐腐蝕作用,并提高合金的強(qiáng)度,用于制造航空和航天的各種高溫部件。尤其對于含高鉬的鎳基合金,除了主合金成份外,對于一些雜質(zhì)元素的控制將嚴(yán)重影響合金的性能。氧化鉬和鉬酸鹽是化學(xué)和石油工業(yè)中的優(yōu)良催化劑,為保證催化劑的性能也需要對重金屬加以嚴(yán)格的控制。由于鎘的所有同位素都會受到氧化鉬的一價(jià)多原子離子干擾,本方法通過 CCT 氧氣反應(yīng)將氧化鉬轉(zhuǎn)化為多氧化鉬從而消除了對鎘的干擾。

 

方法提要本實(shí)驗(yàn)將高純氧化鉬溶解于稀氨水中,采用賽默飛 iCAP Qc ICPMS,分別采用高流量 He 氣碰撞和 CCT 氧氣反應(yīng)模式測定,通過 Qtegra 自動調(diào)諧,并優(yōu)化碰撞反應(yīng)氣體流量消除 Mo 基體對鎘測定的干擾。

 

CAP Q ICPMS 具備一鍵式儀器設(shè)置功能,設(shè)置后可自動運(yùn)行個(gè)性化 TUNE 程序,并完成 Performance Report。一鍵儀器設(shè)置和直觀分析工作流程,為操作人員簡化了實(shí)驗(yàn)步驟并避免出錯(cuò),同時(shí)自動和記錄監(jiān)控儀器狀態(tài),確保了操作的一致性和結(jié)果的重現(xiàn)性。

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