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• 賽默飛氣相色譜適用于He, H2, N2, Ar等高純氣雜質分析方案；

• 中心切割技術結合雙分析柱設計，實現主體組分放空， 雜質氣體經過二次分離；

• 可實現低含量Ar, O2（<10 ppm, V）的基線分離；

• 吹掃閥配合PDD檢測器滿足檢測限低至10-50 ppb（V） 范圍內的雜質分析。

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