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單顆粒ICP-MS測定化學-機械整平中使用的元素氧化物納米顆粒懸浮物的特性

閱讀:1506      發布時間:2020-03-23
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    在半導體元器件制造中,納米元素氧化物納米顆粒( 氧化鋁和氧化鈰)常用于納米電子學和半導體制造行業中化學-機械 (CMP)半導體表面的平整。CMP是一個結合了化學和機械外力平滑平面的過程,此步驟為光刻作準備。CMP懸浮物納米粒子的尺寸分布特征,以及大顆粒的辨別,是光刻過程的質量控制的重要方面,可能會影響到硅晶片的質量。

 

    單顆粒模式ICP-MS(SP-ICP-MS)是分析金屬納米粒子的有前途的技術之一。由于具有測量可溶分析物濃度和單個納米粒子, ICP-MS是一種用于分析半導體工業領域中各種分析物的理想儀器。本工作展示了如何利用單顆粒模式NexION 2000 ICP-MS成功表征兩種類型的元素氧化納米粒子尺寸的平均值和中位值,顆粒濃度,尺寸分布和顆粒尺寸的累積百分數。

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珀金埃爾默企業管理(上海)有限公司

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