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半導體是電子產(chǎn)品的核心，信息產(chǎn)業(yè)的基石。半導體行業(yè)是國民經(jīng)濟支柱性行業(yè)之一，其發(fā)展程度是衡量一個國家科技發(fā)展水平的核心指標。近年來，為進一步鼓勵國內(nèi)半導體的整體發(fā)展，打破外國壟斷，增強科技競爭力，政府投入大量資金在國內(nèi)建造很多集成電路制造廠。
由于半導體行業(yè)的特殊性，芯片的制造、加工工藝非常復雜，在芯片生產(chǎn)工藝中需要使用大量特殊的高純氣體且氣體毒性很強，這些氣體參與芯片生產(chǎn)后，殘余的少量氣體經(jīng)過凈化裝置處理后，通過固定污染源的方式排放至大氣環(huán)境中，如何監(jiān)測特殊污染物排放量并采取適當?shù)目刂拼胧┦前雽w行業(yè)面臨的難點，現(xiàn)有的監(jiān)測設(shè)備及分析手段無法用于半導體行業(yè)特殊污染物的檢測工作。
樂氏科技自主研發(fā)生產(chǎn)的9100FIR和進口產(chǎn)品AtmosFIR兩款傅里葉紅外氣體分析儀，能夠很好地滿足半導體行業(yè)排污監(jiān)測需要。傅里葉紅外氣體分析儀采用全光譜分析技術(shù)，一臺分析儀可以檢測在紅外光譜范圍內(nèi)具有紅外吸收的全部氣體組分，目前儀器開放的氣體標準定量紅外譜庫*涵蓋半導體行業(yè)特殊污染物因子，如NF3、SF6、CF4是半導體行業(yè)尤為關(guān)注的三種氣體污染物，關(guān)于這三種氣體的介紹如下：
NF3是一種強氧化劑，在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，在芯片制造有大量運用；
SF6是一種理想的電子蝕刻劑，廣泛應(yīng)用于微電子、芯片制造技術(shù)領(lǐng)域；
CF4是微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，四氟甲烷高純氣和高純氧的混合氣，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻；
NF3、SF6、CF4是半導體行業(yè)使用最多的三種氣體組分，由于用量很大，且為高純氣，除污染物的排放會涉及上述氣體組分，氣體的泄漏也會對人體和環(huán)境產(chǎn)生巨大影響和毒害。這些氣體組分會強烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道粘膜，腐蝕組織，濃度過高也會產(chǎn)生窒息的危險。因此在半導體行業(yè)針對上述氣體的應(yīng)急監(jiān)測及固定污染源排放監(jiān)測顯得尤為重要。
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