microphase石墨烯合成裝置MPCVD-50介紹

來源：秋山科技（東莞）有限公司 2022年09月07日 17:46

microphase石墨烯合成裝置MPCVD-50介紹

用于碳納米管的合成、碳成膜、納米陶瓷成膜、氮化、硫屬化物成膜等。

目的：	用于合成碳納米管、在粉末樣品上沉積碳膜以及各種 CVD 膜沉積的通用管式爐型熱 CVD 設備。通過增加氨氣、各種CVD反應氣體、升華固體前驅體、液體前驅體的引入單元，可應用于氮化、硫屬化物（二硫化鉬MoS2等）層狀材料沉積等。
特征：	配備液體燃料（乙醇）引入系統，可用于無法安裝烴類氣體的場所。　3系統質量流量氣體流量控制系統，可以進行精確的氣體控制。　真空排氣系統是標準設備，可用作真空爐或氣氛爐。　緊湊而堅固的外殼設計，易于安裝在桌面實驗室工作臺上。　高度可擴展且易于處理任何類型的處理。

LIB電池用Si負極材料上的碳涂層

二硫化鉬薄膜

長 CNT/Si 的 SEM 圖像

粉末狀 CNT 的 SEM 圖像

主要規格

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