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日本FLOM UI-22-110D PCTFE泵在半導體行業的關鍵應用解析

來源:秋山科技(東莞)有限公司   2025年04月18日 14:46  

日本FLOM公司的UI-22-110D(PCTFE泵)憑借其高精度、耐腐蝕、低污染的特性,在半導體制造和電子化學品處理中具有重要應用價值。


1. 光刻膠(Photoresist)的精確涂布與分配

應用場景

  • 旋涂(Spin Coating)輔助供液:在晶圓涂膠過程中,需高精度控制光刻膠的輸送量(μL級別),避免涂布不均勻。

  • 噴墨式光刻(Inkjet Lithography):用于新興的直寫光刻技術,精準分配光刻膠液滴(如80μL/次)。

技術優勢

  • 低脈動輸送:減少氣泡和流量波動,避免涂膠缺陷(如條紋、厚度不均)。

  • PCTFE耐化學性:兼容正膠(如AZ系列)、負膠(如SU-8)及溶劑(PGMEA、丙酮等)。

  • 超低流量控制(0.001mL/min):適合高價值光刻膠的節約型使用。


2. 蝕刻液(Etchant)與清洗劑的精準供給

應用場景

  • 濕法蝕刻(Wet Etching):精確輸送HF(氫氟酸)、H?PO?(磷酸)等腐蝕性液體,控制蝕刻速率。

  • 晶圓清洗:分配SC1(氨水+雙氧水)、SC2(鹽酸+雙氧水)等清洗液,避免過量使用導致表面損傷。

技術優勢

  • 耐強酸強氧化劑:PCTFE對HF、HCl、H?SO?等耐受性優于普通塑料泵。

  • 壓力限制保護:防止管路堵塞或泄漏導致壓力異常,保護晶圓和設備安全。

  • 無金屬污染:不銹鋼+藍寶石柱塞設計,避免金屬離子污染(如Fe、Ni遷移)。


3. CMP(化學機械拋光)漿料輸送

應用場景

  • 拋光液(Slurry)定量供給:在CMP工藝中,需穩定輸送SiO?、Al?O?等納米顆粒懸浮液。

技術優勢

  • 耐磨設計:藍寶石柱塞和PCTFE泵頭可減少漿料磨損,延長壽命。

  • 低脈動:避免漿料沉降或流量不均影響拋光均勻性。


4. 高純化學品(Ultra High Purity, UHP)輸送

應用場景

  • 半導體級溶劑:如IPA(異丙醇)、DMSO(二甲基亞砜)、NMP(N-甲基吡咯烷酮)的精準分配。

  • 電鍍液(Electroplating):銅、鎳等金屬電鍍液的定量添加。

技術優勢

  • 化學兼容性廣:PCTFE幾乎不吸附有機物,適合高純溶劑。

  • 無顆粒脫落:相比普通蠕動泵,減少污染風險。


5. 先進封裝(Advanced Packaging)

應用場景

  • 底部填充(Underfill):在芯片封裝中精確注入環氧樹脂,避免空洞(Voids)。

  • 導電膠(Conductive Adhesive)分配:用于微米級焊點或3D IC堆疊。

技術優勢

  • 高粘度流體適應(需選配高壓版本):可處理1000cPs以上膠體。

  • RS232C控制:支持與點膠機器人聯動,實現自動化生產。


選型與使用注意事項

適用條件

? 推薦場景

  • 微量化學液分配(0.001–10mL/min)

  • 腐蝕性/高純液體輸送

  • 低脈動要求的精密工藝

? 限制因素

  • 不適用于超高壓力(>2MPa)場景,如高壓HPLC。

  • 含氟類溶劑(如全氟醚)可能滲透PCTFE,需測試兼容性。

維護建議

  1. 定期清洗:使用后需用兼容溶劑(如IPA)沖洗泵頭,避免結晶或固化。

  2. 密封件更換:長期接觸強酸(如HF)時,建議每6–12個月檢查柱塞密封。

  3. 校準流量:半導體工藝對精度要求,建議每3個月校準一次。


結論

FLOM UI-22-110D在半導體行業的應用核心價值在于:
? 超高精度(0.3%重現性)滿足微電子制造嚴苛標準。
? 耐腐蝕+低污染特性適配半導體化學品(光刻膠、蝕刻液、UHP溶劑)。
? 低脈動+緊湊設計適合集成到自動化設備(如涂膠機、清洗臺)。

若需更高壓力或更大流量,可考慮FLOM其他系列(如金屬泵頭型號),但UI-22-110D在微量、高純、腐蝕性流體領域仍是優選方案。


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